Fraunhofer-Gesellschaft - Einkauf B12TED
Single Wafer ALD for TiN (IPMS-MRS05.1) - PR896468-2480-P
1 Stück Single Wafer ALD for TiN Es wird eine Einzelwafer-Atomschichtabscheidungsanlage für TiN sowie für Al2O3 und SiO2 adressiert. Das System muss mit einer ferngesteuerten Plasmaquelle entweder für den TiN-Prozess oder für die Vorbehandlung der Oberfläche direkt vor der ALD ausgestattet sein. Dieses System ist für zwei wichtige Anwendu...
Measurement Technology, Process Technology
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- Tender type:
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- Contracting authority:
- Fraunhofer-Gesellschaft - Einkauf B12
- Published:
- March 05, 2026
- Deadline:
- Not specified
- Topic:
- Measurement Technology
Tender description
1 Stück Single Wafer ALD for TiN Es wird eine Einzelwafer-Atomschichtabscheidungsanlage für TiN sowie für Al2O3 und SiO2 adressiert. Das System muss mit einer ferngesteuerten Plasmaquelle entweder für den TiN-Prozess oder für die Vorbehandlung der Oberfläche direkt vor der ALD ausgestattet sein. Dieses System ist für zwei wichtige Anwendungen in der Prozesslinie erforderlich. Eine Anwendung ist die Abscheidung einer TiN-Barriere innerhalb von TSV für die fortgeschrittene Integration von MEMS-Chi
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