Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. - Einkauf B12 - Vergabestelle BauMünchenTED
System for High Apect Ratio Etch consisting of mainframe and process chambers (IPMS-CNT05.1) - PR1153448-2480-P
1 Stück System for High Apect Ratio Etch consisting of mainframe and process chambers (IPMS-CNT05.1) Die Spezifikation beschreibt die Anforderungen an ein vollautomatisches Prozessgerät, das für Plasmaätzprozesse auf Wafern mit einem Durchmesser von 300 mm eingesetzt werden soll. Die Systeme werden für die Bearbeitung von Silizium-CMOS-Wa...
Angebotsfrist: 15. Juli 2026 (abgelaufen)Typ: Ausschreibung
Messtechnik, Verfahrenstechnik
Dokumente kostenlos freischalten
Ohne Kreditkarte · Sofortiger Zugang
Inhalt auf einen Blick
- Ausschreibungstyp:
- Ausschreibung
- Auftraggeber:
- Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. - Einkauf B12 - Vergabestelle Bau
- Veröffentlicht:
- 10. Juni 2026
- Frist:
- 15. Juli 2026
- Thema:
- Messtechnik
Ausschreibungsbeschreibung
Vollständige Beschreibung anzeigenBeschreibung einklappen
1 Stück System for High Apect Ratio Etch consisting of mainframe and process chambers (IPMS-CNT05.1) Die Spezifikation beschreibt die Anforderungen an ein vollautomatisches Prozessgerät, das für Plasmaätzprozesse auf Wafern mit einem Durchmesser von 300 mm eingesetzt werden soll. Die Systeme werden für die Bearbeitung von Silizium-CMOS-Wafern in einer Produktionsumgebung der Reinraumklasse 1000 (entspricht in etwa Klasse 6 nach EN ISO 14644-1) eingesetzt. Das neue Werkzeug soll zur Strukturierung von Strukturen mit hohem Aspektverhältnis in Silizium sowie in allen damit verbundenen erforderlichen Materialien (z. B. SiO₂, SiN) eingesetzt werden, um dieses Hauptziel zu erreichen. Optionale Positionen gemäß Technical Tender Specification.
Weiterführende Details
Mit dem kostenlosen Zugang stehen Unterlagen, Fristen und Hinweise zur Einreichung strukturiert bereit.
- Kernanforderungen der Ausschreibung priorisiert aufbereitet
- Fristen, Eignungskriterien und Unterlagen in einem Ablauf
- Hinweise zur strukturierten Angebotsvorbereitung
- Passende Folgeausschreibungen automatisch entdecken
30 Tage kostenlos freischalten
30 Tage kostenlos · keine Kreditkarte · jederzeit kündbar
Alle Vergabedetails
Auftraggeber, Lose, Beteiligte, Orte, Unterlagen und Verfahrensdaten sind bereits erfasst. Öffnen Sie einen Bereich, um die vollständigen Angaben im Workspace zu sehen.
7 Datenbereiche verfügbar
30 Tage kostenlos freischalten
30 Tage kostenlos · keine Kreditkarte · jederzeit kündbar
Unterlagen
Freischalten50 Angaben erfasstUnterlagen · Dokumentenpaket
Auftraggeber
Freischalten6 Angaben erfasstAuftraggeber · Anschrift · Kontakt
Lose
Freischalten1 Angabe erfasstLose LOT-0000
Verfahrensdaten
Freischalten6 Angaben erfasstBekanntmachungsnummer · Verfahrensreferenz · Referenz des Auftraggebers · Verfahrensart · +2 weitere
Ausführungsorte
Freischalten2 Angaben erfasstAusführungsorte
Bieter und Auftragnehmer
Freischalten3 Angaben erfasstBieter und Auftragnehmer · Anschrift · Kontakt
Veröffentlichungsstelle
Freischalten6 Angaben erfasstVeröffentlichungsstelle · Anschrift · Kontakt
Ähnliche Bekanntmachungen
9PVD-Sputter-Cluster (IMS-01) - PR1036574-2380-P
Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. - Einkauf B12 - Vergabestelle BauMünchenPVD-Sputter-Cluster (IMS-01)Prior Information Notice – RF On-Wafer Probe Station
Ferdinand-Braun-Institut gGmbH, Leibniz-Institut für HöchstfrequenztechnikBerlinFrist: 12. JuliThe Ferdinand-Braun-Institut (FBH) plans to procure an automated RF on-wafer probing system within the framework of the EU-funded APECS programme. The system will be used for electrical characterisation of semiconductor devices, circuits and demonstrators at wafer level. It is intended to enable high-frequency and mmWave measurements under controlled and reproducible conditions. The equipment shall support automated probing of wafers up to 200 mm in diameter and provide a versatile platform for a wide range of RF measurements. It will be installed in a cleanroom environment and integrated into existing measurement and process workflows. The procurement procedure is planned for 2026.IMS Chips - Vergabe einer Belackungs- und Entwicklungsanlage für Wafer
Institut für Mikroelektronik Stuttgart Stiftung des bürgerlichen RechtsStuttgartFrist: 30. JuniDas Institut für Mikroelektronik Stuttgart (nachfolgend auch "IMS") ist eine gemeinnützige Stiftung des bürgerlichen Rechts und Teil der Innovationsallianz Baden-Württemberg. Das IMS betreibt wirtschaftsnahe Forschung und Entwicklung auf den Gebieten Silizium-Technologie, Anwenderspezifische Schaltkreise (ASIC), Nanostruk-turierung, GaN-Leistungselektronik, Photonik, großflächige MEMS und Bildsensorik und engagiert sich in der beruflichen Weiterbildung. Zu den Aufgaben des IMS gehört unter anderem die Bereitstellung von Infrastruktur, Beratungs-, Forschungs- und Entwicklungsdienstleistungen in diesen Bereichen für die Klein- und Mittelständische Industrie. Gegenstand des vorliegenden Vergabeverfahrens ist die Belackungs-/Entwicklungsanlage zur Prozessierung von 150mm und 200mm Wafern mit wechseln-den Fotolacken für die iLine- und E-Beam-Lithografie. Optional ist ein zweijähriger Vollwartungsvertrag mit Uptime-Garantie anzubieten. Die maximale Lieferzeit beträgt 18 Monate nach Zuschlag. Ziel ist es, mit dieser Belackungs-/Entwicklungsanlage sowohl neuartige Prozesse und Prozessfolgen innerhalb öffentlich geförderter Forschungsprojekte und Industrie-finanzierter Entwicklungsprojekte zu entwickeln als auch Klein- und Pilotserienfertigungen zu realisieren.Beschaffung eines Wellenerzeugers für die Flachwasserrinne der Technischen Universität Berlin / Procurement of a wave generator for the shallow water tank of the Technische Universität Berlin
Technische Universität BerlinFrist: 12. JuniDie Technische Universität Berlin (TU Berlin, die Auftraggeberin/ die AG) beabsichtigt die Beschaffung eines Wellenerzeugers für die Flachwasserrinne der Technischen Universität Berlin (fortan: Wellenerzeuger für die Flachwasserrinne). Die Ausschreibung umfasst die vollständige Bereitstellung eines funktionsbereiten Wel-lenerzeugers für die Flachwasserrinne. Dies inkludiert Planung, Fertigung, Lieferung, In-stallation und Inbetriebnahme des Wellenerzeugers für die Flachwasserrinne, inklusive notwendiger Hard- und Software zur Steuerung. Es sind ausschließlich Neugeräte anzu-bieten und zu liefern. Die Beschaffung umfasst die Lieferung, inklusive Aufstellung, Installation und betriebsbe-reite Übergabe der des Wellenerzeugers für die Flachwasserrinne sowie eine anschlie-ßende technische Einweisung/ Schulung. Alle detaillierten Informationen können aus den folgenden Abschnitten der Leistungsbeschreibung genommen werden. Es sind ausschließlich Neugeräte anzubieten und zu liefern. Wiederaufbereitete Produkte, Rückläufer etc. oder Grauimporte sind ausgeschlossen. / The Technische Universität Berlin (TU Berlin, the Contracting Authority) intends to pro-cure a wave generator for the shallow water tank of the Technische Universität Berlin (hereinafter: wave generator for the shallow water tank). The tender covers the complete provision of a fully operational wave generator for the shallow water tank. This includes the design, manufacturing, delivery, installation, and commissioning of the wave genera-tor for the shallow water tank, including all necessary hardware and software for control purposes. Only brand-new equipment is to be offered and delivered. The procurement includes the delivery, including setup, installation, and turnkey hando-ver of the wave generator for the shallow water tank, as well as subsequent technical instruction/training. Detailed information can be found in the following sections of the service specifications. Only brand-new equipment is to be offered and delivered. Refurbished products, returns, etc., or grey market imports are excluded.Einbau stationäre Besandungsanlage für Schienenfahrzeuge
SWU Verkehr GmbHUlmIm Zuge der Umbaumaßnahmen zur Erweiterung des Betriebshofes für die verlängerten AvenioXL Fahrzeuge ist in der Abstellhalle (Halle C), der Stadtwerke Ulm Verkehr GmbH eine stationäre Besandungsanlage für Straßenbahnen zu liefern und zu montieren. Im Außenbereich ist ein neues Silo aufzustellen und die Besandungsstationen sind auf den Gleisen C11, C12 und C13 zu errrichten. Durch den AN ist die Anlage anzuschließen und in Betrieb zu nehmen.Konzentrieranlage für Obstverarbeitungsprodukte
Bundesministerium für Land- und Forstwirtschaft, Regionen und WasserwirtschaftWienFrist: 29. JuliZiel dieses Rahmenvertrages ist die Lieferung einer Konzentrieranlage für Obstverarbeitungsprodukte.Prior Information Notice – Sputter Deposition
Ferdinand-Braun-Institut gGmbH, Leibniz-Institut für HöchstfrequenztechnikBerlinFrist: 11. JuliThe Ferdinand-Braun-Institut (FBH) plans to procure a sputter deposition system within the framework of the EU-funded APECS programme. The system will be used for the deposition of metallic and insulating thin films on semiconductor wafers with diameters of up to 200 mm. It is intended to support advanced heterogeneous integration technologies, including InP-on-Si (BiCMOS) platforms. The equipment shall enable highly controlled thin-film processes such as metallization, interconnect formation, passivation and barrier layer deposition. A multi-chamber cluster system with integrated cleaning and deposition capabilities is required to ensure high process quality and contamination control. The system will be installed in a cleanroom environment and must be compatible with semiconductor manufacturing requirements. The procurement procedure is planned for 2026.Prior Information Notice – RF Measurement System for On-Wafer Characterisation
Ferdinand-Braun-Institut gGmbH, Leibniz-Institut für HöchstfrequenztechnikBerlinFrist: 12. JuliThe Ferdinand-Braun-Institut (FBH) plans to procure a high-frequency RF measurement system for on-wafer characterisation within the framework of the EU-funded APECS programme. The system will be used for the electrical characterisation of semiconductor devices, circuits and demonstrators, including single-ended and differential measurements in the mmWave frequency range. It is intended to support advanced heterointegration processes and ensure reliable and high-quality measurement results. The equipment shall enable automated, high-precision measurements and provide a versatile platform for RF analysis, including network and spectrum measurements. It will be integrated into existing cleanroom and measurement environments. The procurement procedure is planned for 2026.FBH-02 Prior Information Notice – Wet Chemical Processing Tool (Single Wafer Etching)
Ferdinand-Braun-Institut gGmbH, Leibniz-Institut für HöchstfrequenztechnikBerlinFrist: 11. JuliDas Ferdinand-Braun-Institut (FBH) plant im Rahmen des EU-Programms APECS die Beschaffung eines Nasschemie-Prozesssystems für das Einzelscheibenätzen. Das System ist für die Verarbeitung von Verbindungshalbleitermaterialien wie InP, GaAs, AlGaAs und GaN vorgesehen. Es ermöglicht hochpräzise, reproduzierbare Ätzprozesse pro Wafer inklusive Endpunkterkennung. Der Einzelscheibenansatz verbessert Prozesskontrolle und Reproduzierbarkeit für die verlustarme, hochpräzise Halbleiterfertigung. Die Anlage wird in einer bestehenden Reinraumumgebung installiert und muss ISO-Klasse-5-konform sein. Die Beschaffung ist für 2026 geplant.
Häufige Fragen zu dieser Ausschreibung
- Wie kann ich mich auf diese Ausschreibung bewerben?
- Erstellen Sie ein kostenloses Konto auf Auftrag One. Danach sehen Sie alle Unterlagen, Fristen und Hinweise zur Einreichung in einem strukturierten Ablauf.
- Bis wann läuft die Angebotsfrist?
- Die Angebotsfrist endet am 15. Juli 2026.
- Wer ist der Auftraggeber?
- Der Auftraggeber ist Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. - Einkauf B12 - Vergabestelle Bau.
- Welche Unterlagen sind für den Start relevant?
- In der Regel benötigen Sie Leistungsbeschreibung, Eignungsnachweise, Fristenhinweise und ggf. Formblätter. Auf Auftrag One werden diese Punkte priorisiert dargestellt.