Fraunhofer-Gesellschaft - Einkauf B12TED
Prober 300mm (IAF-09.3) - PR971253-2050-P
Beschaffung von 2 Waferprobern (300 mm) zur automatisierten Charakterisierung von Schaltungen im Millimeterwellenbereich bis ca. 250 GHz (S-Parameter- und Leistungsmessungen). Anforderungen: höchste Positioniergenauigkeit für 10µm-Pads über 300 mm Waferfläche, hohe Reproduzierbarkeit, automatische Höhenkorrektur (Z-Profiling) bei ±10µm Hö...
Messtechnik, Laborinstrumente
Ohne Kreditkarte · Sofortiger Zugang
Inhalt auf einen Blick
- Ausschreibungstyp:
- Ausschreibung
- Auftraggeber:
- Fraunhofer-Gesellschaft - Einkauf B12
- Veröffentlicht:
- 21. April 2026
- Frist:
- Nicht angegeben
- Thema:
- Messtechnik
Ausschreibungsbeschreibung
Beschaffung von 2 Waferprobern (300 mm) zur automatisierten Charakterisierung von Schaltungen im Millimeterwellenbereich bis ca. 250 GHz (S-Parameter- und Leistungsmessungen). Anforderungen: höchste Positioniergenauigkeit für 10µm-Pads über 300 mm Waferfläche, hohe Reproduzierbarkeit, automatische Höhenkorrektur (Z-Profiling) bei ±10µm Höhentoleranz sowie eine integrierte Temperaturregelung des Chucks.
Weiterführende Details
Mit dem kostenlosen Zugang stehen Unterlagen, Fristen und Hinweise zur Einreichung strukturiert bereit.
- Kernanforderungen der Ausschreibung priorisiert aufbereitet
- Fristen, Eignungskriterien und Unterlagen in einem Ablauf
- Hinweise zur strukturierten Angebotsvorbereitung
- Passende Folgeausschreibungen automatisch entdecken
30 Tage kostenlos · keine Kreditkarte · jederzeit kündbar
Alle Vergabedetails
Auftraggeber, Lose, Beteiligte, Orte, Unterlagen und Verfahrensdaten sind bereits erfasst. Öffnen Sie einen Bereich, um die vollständigen Angaben im Workspace zu sehen.
7 Datenbereiche verfügbar
30 Tage kostenlos · keine Kreditkarte · jederzeit kündbar
Unterlagen
Freischalten50 Angaben erfasstUnterlagen · Dokumentenpaket
Auftraggeber
Freischalten3 Angaben erfasstAuftraggeber · Anschrift · Kontakt
Lose
Freischalten1 Angabe erfasstLose LOT-0000
Verfahrensdaten
Freischalten6 Angaben erfasstBekanntmachungsnummer · Verfahrensreferenz · Referenz des Auftraggebers · Verfahrensart · +2 weitere
Ausführungsorte
Freischalten2 Angaben erfasstAusführungsorte
Bieter und Auftragnehmer
Freischalten3 Angaben erfasstBieter und Auftragnehmer · Anschrift · Kontakt
Veröffentlichungsstelle
Freischalten6 Angaben erfasstVeröffentlichungsstelle · Anschrift · Kontakt
Ähnliche Bekanntmachungen
5Prober 300mm (IAF-09.3)
Fraunhofer-Gesellschaft - Einkauf B12Beschreibung: 2 Stück: Prober 300mm Zur automatisierten Charakterisierung von Schaltungen im Millimeterwellenbereich bis ca. 250 GHz mittels S-Parameter- und Leistungs-Messungen werden zwei Waferprober benötigt, die höchste Anforderungen an die Positioniergenauigkeit erfüllen. Kontaktflächen ("Pads") von ca. 10µm müssen über eine "Wafer"-Fläche von ø300 mm präzise und mit hoher Reproduzierbarkeit angefahren werden können. Da diese Wafer in der Höhe um ca. ±10µm variieren können, bedarf es einer automatischen Höhenkorrektur (Z-Profiling). Eine Temperatur-Regelung des Chucks ist notwendig.ICP Trockenätzanlage Chlor IV (IAF-07b1) - PR1119209-2050-P
Fraunhofer-Gesellschaft - Einkauf B121 Stück Chlor ICP-Ätzanlage mit planarer Plasmaquelle, die bestehende qualifizierte Ätzprozesse (Sentech ICP-RIE SI500 537) direkt übernehmen kann, übertragbar auf 150mm Wafer. Optionen: Substratelektroden für 100mm/75mm Wafer und Bruchstücke, beheizter Liner, Serviceerweiterung, Ersatzteilkits (Gasring, MVV-Messröhre, Schalldämpfer, Turbopumpe, Koppelplatte, Clamping 150mm, Umlaufkühler Julabo, SPS-Steuereinheit).Evaporation System (IAF-06.1) - PR1197813-2050-P
Fraunhofer-Gesellschaft - Einkauf B12Frist: 08. Juni1 Evaporation System: Elektronenstrahl-Verdampfungsanlage für die Metallbeschichtung, geeignet für 150-mm-Wafer, wassergekühlte Hochvakuum-Beschichtungsanlage für Metallabscheidung im vertikalen und schrägen Winkel (Substrat um 45 Grad geneigt).Wafer cleaner / mask cleaner (IAF-08.3) - PR1146362-2050-P
Fraunhofer-Gesellschaft - Einkauf B12Wafer cleaner / mask cleaner (IAF-08.3) The requirement is for a wafer and mask cleaning machine to be installed in an ISO Class 4 cleanroom and which must comply with European safety regulations for industrial equipment. The system is intended to remove particles and contaminants from wafers and lithography masks using aqueous and acidic solutions, based on the RCA cleaning process. To ensure safe operation and a long service life, the process chamber must be made of process-media-resistant material and be equipped with an extraction system and leak detection. The system must be capable of reliably removing particles larger than 250 nm from (quartz) glass or wafers in order to ensure the purity required for the processes in the Fraunhofer IAF cleanroom and not to compromise process yield. Translated with DeepL.com (free version)Waferreiniger / Maskenreiniger (IAF-08.3) - PR1146362-2050-P
Fraunhofer-Gesellschaft - Einkauf B12Frist: 05. MaiBeschaffung eines Wafer- und Maskenreinigungsgeräts für den Einsatz in einem Reinraum der ISO-Klasse 4. Das Gerät muss Wafer und Lithographie-Masken mittels wässriger und saurer Lösungen (RCA-Prozess) von Partikeln > 250 nm reinigen. Anforderungen: Prozesskammer aus medienresistentem Material, integrierte Absaugung, Leckageerkennung sowie Einhaltung europäischer Sicherheitsvorschriften für Industrieanlagen.
Häufige Fragen zu dieser Ausschreibung
- Wie kann ich mich auf diese Ausschreibung bewerben?
- Erstellen Sie ein kostenloses Konto auf Auftrag One. Danach sehen Sie alle Unterlagen, Fristen und Hinweise zur Einreichung in einem strukturierten Ablauf.
- Bis wann läuft die Angebotsfrist?
- Für diese Bekanntmachung ist aktuell keine konkrete Angebotsfrist angegeben.
- Wer ist der Auftraggeber?
- Der Auftraggeber ist Fraunhofer-Gesellschaft - Einkauf B12.
- Welche Unterlagen sind für den Start relevant?
- In der Regel benötigen Sie Leistungsbeschreibung, Eignungsnachweise, Fristenhinweise und ggf. Formblätter. Auf Auftrag One werden diese Punkte priorisiert dargestellt.