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Lieferung einer CVD-Anlage zur Herstellung dünner Schichten (Substratgröße bis 4 Zoll)
Lieferung einer CVD-Anlage (chemische Gasphasenabscheidung) zur Herstellung dünner Schichten aus Übergangsmetall-Dichalkogeniden und Gallium-Monochalkogeniden auf Substraten bis zu 4 Zoll, inklusive Lieferung und Inbetriebnahme.
Typ: Ausschreibung
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Inhalt auf einen Blick
Lieferung einer CVD-Anlage (chemische Gasphasenabscheidung) zur Herstellung dünner Schichten aus Übergangsmetall-Dichalkogeniden und Gallium-Monochalkogeniden auf Substraten bis zu 4 Zoll, inklusive Lieferung und Inbetriebnahme.
- Ausschreibungstyp:
- Ausschreibung
- Auftraggeber:
- Universität Duisburg-Essen
- Veröffentlicht:
- 14. Mai 2026
- Frist:
- Nicht angegeben
Ausschreibungsbeschreibung
Lieferung einer CVD-Anlage (chemische Gasphasenabscheidung) zur Herstellung dünner Schichten aus Übergangsmetall-Dichalkogeniden und Gallium-Monochalkogeniden auf Substraten bis zu 4 Zoll, inklusive Lieferung und Inbetriebnahme.
Weiterführende Details
Nach Registrierung stehen Unterlagen, Fristen und Hinweise zur Einreichung strukturiert bereit.
- Kernanforderungen der Ausschreibung priorisiert aufbereitet
- Fristen, Eignungskriterien und Unterlagen in einem Ablauf
- Hinweise zur strukturierten Angebotsvorbereitung
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Dokumente und Anhänge
49 Dateien erfasst- PDF Notice (BUL)
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- PDF Notice (EST)
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Häufige Fragen zu dieser Ausschreibung
- Wie kann ich mich auf diese Ausschreibung bewerben?
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- Bis wann läuft die Angebotsfrist?
- Für diese Bekanntmachung ist aktuell keine konkrete Angebotsfrist angegeben.
- Wer ist der Auftraggeber?
- Der Auftraggeber ist Universität Duisburg-Essen.
- Welche Unterlagen sind für den Start relevant?
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