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Lieferung einer CVD-Anlage zur Herstellung dünner Schichten (Substratgröße bis 4 Zoll)
Lieferung einer CVD-Anlage (chemische Gasphasenabscheidung) zur Herstellung dünner Schichten aus Übergangsmetall-Dichalkogeniden und Gallium-Monochalkogeniden auf Substraten bis zu 4 Zoll, inklusive Lieferung und Inbetriebnahme.
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Inhalt auf einen Blick
- Ausschreibungstyp:
- Ausschreibung
- Auftraggeber:
- Universität Duisburg-Essen
- Veröffentlicht:
- 14. Mai 2026
- Frist:
- Nicht angegeben
Ausschreibungsbeschreibung
Lieferung einer CVD-Anlage (chemische Gasphasenabscheidung) zur Herstellung dünner Schichten aus Übergangsmetall-Dichalkogeniden und Gallium-Monochalkogeniden auf Substraten bis zu 4 Zoll, inklusive Lieferung und Inbetriebnahme.
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