Fraunhofer-Gesellschaft - Einkauf B12TED
Single Chamber Cleaning Tool (IZM-137) - PR1094599-3460-P
1x Single Chamber Cleaning Tool: Nasschemikalien-Reinigungssystem für Halbleiterfertigung. Reinigt Fotomasken, auf Filmrahmen montierte Wafer und runde Wafer (200/300 mm) mit Piranha- und SC1-Lösungen, ergänzt durch Ultraschall oder Bürsten. Ziel: Entfernung von Partikeln >250 nm für i-Line-Lithografie. Optionale Features: extreme Verform...
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- Fraunhofer-Gesellschaft - Einkauf B12
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- May 12, 2026
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1x Single Chamber Cleaning Tool: Nasschemikalien-Reinigungssystem für Halbleiterfertigung. Reinigt Fotomasken, auf Filmrahmen montierte Wafer und runde Wafer (200/300 mm) mit Piranha- und SC1-Lösungen, ergänzt durch Ultraschall oder Bürsten. Ziel: Entfernung von Partikeln >250 nm für i-Line-Lithografie. Optionale Features: extreme Verformung (1500-2500 µm), vertikales Rotationsbürstsystem, programmierbare Bewegung, Medienüberwachung (Durchfluss, Druck), Sicherheitsmerkmale, CO2-Gasflaschenlagerung (2-6 kg).
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