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Lieferung einer CVD-Anlage zur Herstellung dünner Schichten (Substratgröße bis 4 Zoll)
Lieferung einer CVD-Anlage (chemische Gasphasenabscheidung) zur Herstellung dünner Schichten aus Übergangsmetall-Dichalkogeniden und Gallium-Monochalkogeniden auf Substraten bis zu 4 Zoll, inklusive Lieferung und Inbetriebnahme.
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- Universität Duisburg-Essen
- Published:
- May 14, 2026
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Lieferung einer CVD-Anlage (chemische Gasphasenabscheidung) zur Herstellung dünner Schichten aus Übergangsmetall-Dichalkogeniden und Gallium-Monochalkogeniden auf Substraten bis zu 4 Zoll, inklusive Lieferung und Inbetriebnahme.
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