Fraunhofer ENAS
teil-automatisches Reinigungssystems für fotolithografische Masken
Beschaffung eines teil-automatischen Reinigungssystems für fotolithografische Masken in der Halbleiterindustrie zur Installation in einem Reinraum. Es müssen 6", 7" und 9" Masken durch ein mögliches Austauschen des Chucks gereinigt werden können. teil-automatisches Reinigungssystems für fotolithografische Masken
Angebotsfrist: 16. September 2026Typ: Ausschreibung
Verfahrenstechnik
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- Ausschreibungstyp:
- Ausschreibung
- Auftraggeber:
- Fraunhofer ENAS
- Veröffentlicht:
- 29. August 2026
- Frist:
- 16. September 2026
- Thema:
- Verfahrenstechnik
Ausschreibungsbeschreibung
Beschaffung eines teil-automatischen Reinigungssystems für fotolithografische Masken in der Halbleiterindustrie zur Installation in einem Reinraum. Es müssen 6", 7" und 9" Masken durch ein mögliches Austauschen des Chucks gereinigt werden können. teil-automatisches Reinigungssystems für fotolithografische Masken
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