TEKNOLOGIAN TUTKIMUSKESKUS VTT OYVTTTED
Metal CMP and brush cleaner
Lieferung eines automatischen metallischen Chemical Mechanical Polishing (CMP)-Systems mit integrierter Wafer-Reinigung für 200-mm-Halbleiterwafer. Das System muss Kupfer-, Barriere-, TSV- und Quantenmaterialien polieren können, mit 3 Polierplatten, jeweils mit integrierter Pad-Konditionierung, mehreren Endpunktdetektionssystemen, Multi-Z...
Verfahrenstechnik
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Inhalt auf einen Blick
- Ausschreibungstyp:
- Ausschreibung
- Auftraggeber:
- TEKNOLOGIAN TUTKIMUSKESKUS VTT OY
- Veröffentlicht:
- 26. Mai 2026
- Frist:
- Nicht angegeben
- Thema:
- Verfahrenstechnik
Ausschreibungsbeschreibung
Lieferung eines automatischen metallischen Chemical Mechanical Polishing (CMP)-Systems mit integrierter Wafer-Reinigung für 200-mm-Halbleiterwafer. Das System muss Kupfer-, Barriere-, TSV- und Quantenmaterialien polieren können, mit 3 Polierplatten, jeweils mit integrierter Pad-Konditionierung, mehreren Endpunktdetektionssystemen, Multi-Zonen-Membranköpfen, Zufuhr für mindestens 4 Slurries und DIW pro Platte sowie Plattentemperaturregelung. Integrierte Reiniger mit Dampftrocknung für Low-k-Materialien. Waferhandling über SMIF. Erforderlich für Forschungsumgebung mit nicht standardmäßigen Wafern. Lieferung, Installation und Inbetriebnahme inbegriffen.
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- Der Auftraggeber ist TEKNOLOGIAN TUTKIMUSKESKUS VTT OY.
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