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maskenloses UV-Direktlithographie-System
Beschafft werden soll ein kompaktes, für den Reinraumeinsatz geeignetes Tischsystem zur maskenlo-sen UV-Direktlithographie für Forschung, Entwicklung und Kleinserien-Prototyping. Das System muss sowohl eine rasterbasierte Vollflächenbelichtung als auch einen zusätzlichen vektorbasierten Direkt-belichtungsmodus bereitstellen, um hochauflös...
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Inhalt auf einen Blick
- Ausschreibungstyp:
- Ausschreibung
- Auftraggeber:
- Friedrich-Schiller-Universität Jena
- Veröffentlicht:
- 21. Mai 2026
- Frist:
- 25. Juni 2026
Ausschreibungsbeschreibung
Beschafft werden soll ein kompaktes, für den Reinraumeinsatz geeignetes Tischsystem zur maskenlo-sen UV-Direktlithographie für Forschung, Entwicklung und Kleinserien-Prototyping. Das System muss sowohl eine rasterbasierte Vollflächenbelichtung als auch einen zusätzlichen vektorbasierten Direkt-belichtungsmodus bereitstellen, um hochauflösende Mikro- und Nanostrukturen, Ausbesserungen bestehender Strukturen sowie konturtreue Linienbelichtungen auf unterschiedlichsten Substraten zu ermöglichen. Daraus ergeben sich folgende Mindestanforderungen: siehe Anlage 2.
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Auftraggeber
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Lose
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Verfahrensdaten
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