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Beschaffung eines Lithographiegeräts für maskenlose submikrometer Strukturierung von Polymeren
Lithographiegerät für maskenlose submikrometer Strukturierung von photoempfindlichen Polymeren
Typ: Ausschreibung
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- Ausschreibungstyp:
- Ausschreibung
- Auftraggeber:
- Technische Universität München
- Veröffentlicht:
- 24. März 2026
- Frist:
- Nicht angegeben
Ausschreibungsbeschreibung
Lithographiegerät für maskenlose submikrometer Strukturierung von photoempfindlichen Polymeren
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