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Fraunhofer-Gesellschaft - Einkauf B12

Glas and Metal Etch (EMFT-01.2 - EMFT-01.6) - PR1074784-2270-P

Beschaffung einer Ätzanlage für 200-mm-Substrate (Glas/Quarz/Metall). Anforderungen: Hochdichte Plasmaquelle für tiefe Via-Ätzungen (Schichtdicken 2-150 µm), Ätzung von Metallen (Ni, Nb, NbN) und Nitriden (Si3N4), Uniformität <1%, Handhabung transparenter Substrate ohne opake Schichten. Optionen: Substratheizung und Edge-Cover-Ringe für E...

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Ausschreibungstyp:
Ausschreibung
Auftraggeber:
Fraunhofer-Gesellschaft - Einkauf B12
Veröffentlicht:
17. November 2025
Frist:
Nicht angegeben

Ausschreibungsbeschreibung

Beschaffung einer Ätzanlage für 200-mm-Substrate (Glas/Quarz/Metall). Anforderungen: Hochdichte Plasmaquelle für tiefe Via-Ätzungen (Schichtdicken 2-150 µm), Ätzung von Metallen (Ni, Nb, NbN) und Nitriden (Si3N4), Uniformität <1%, Handhabung transparenter Substrate ohne opake Schichten. Optionen: Substratheizung und Edge-Cover-Ringe für EMFT-01.2/01.3. Die Anlage ist für heterogene Integration erforderlich, da kein vergleichbares System im Konsortium existiert.

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Häufige Fragen zu dieser Ausschreibung

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Wer ist der Auftraggeber?
Der Auftraggeber ist Fraunhofer-Gesellschaft - Einkauf B12.
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