Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e. V.ErlangenTED
Clustertool for Ion Beam Etching of 300mm wafers
Beschaffung einer Ionenstrahl-Ätzanlage für 300mm-Wafer am Fraunhofer IPMS. Das System ist für die CMOS-Wafer-Bearbeitung in einer Reinraumumgebung der Klasse 1000 (ca. Klasse 6 nach EN ISO 14644-1) vorgesehen. Die Anlage muss die Industriestandards hinsichtlich Metallkontamination und Partikelgenerierung erfüllen.
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- Ausschreibungstyp:
- Ausschreibung
- Auftraggeber:
- Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e. V.
- Veröffentlicht:
- 18. Februar 2026
- Frist:
- 20. März 2026
Ausschreibungsbeschreibung
Beschaffung einer Ionenstrahl-Ätzanlage für 300mm-Wafer am Fraunhofer IPMS. Das System ist für die CMOS-Wafer-Bearbeitung in einer Reinraumumgebung der Klasse 1000 (ca. Klasse 6 nach EN ISO 14644-1) vorgesehen. Die Anlage muss die Industriestandards hinsichtlich Metallkontamination und Partikelgenerierung erfüllen.
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