AIT Austrian Institute of Technology GmbHWien
Beschaffung eines hochauflösenden Rasterelektronenmikroskops für ein Materialentwicklungslabor
Ausgeschrieben wird ein hochauflösendes Rasterelektronenmikroskop für ein Materialentwicklungslabor mit Feldemissionsquelle das sowohl in Hochvakuum als auch in Niedervakuum betrieben werden kann. Das Gerät muss eine maximale Auflösung von mindestens 1.0 nm erzielen, die Detektion von unterschiedlichen Elektronensignalen ermöglichen und ü...
Angebotsfrist: 03. September 2026Typ: Ausschreibung
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- Ausschreibungstyp:
- Ausschreibung
- Auftraggeber:
- AIT Austrian Institute of Technology GmbH
- Veröffentlicht:
- 03. August 2026
- Frist:
- 03. September 2026
Ausschreibungsbeschreibung
Ausgeschrieben wird ein hochauflösendes Rasterelektronenmikroskop für ein Materialentwicklungslabor mit Feldemissionsquelle das sowohl in Hochvakuum als auch in Niedervakuum betrieben werden kann. Das Gerät muss eine maximale Auflösung von mindestens 1.0 nm erzielen, die Detektion von unterschiedlichen Elektronensignalen ermöglichen und über eine motorisierte Probenbühne von mindestens 100 mm x 100 mm lateralen Verfahrweg verfügen.
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10Beschaffung eines hochauflösenden Rasterelektronenmikroskops für ein Materialentwicklungslabor
AIT Austrian Institute of Technology GmbHWienFrist: 03. Sept.Ausgeschrieben wird ein hochauflösendes Rasterelektronenmikroskop für ein Materialentwicklungslabor mit Feldemissionsquelle das sowohl in Hochvakuum als auch in Niedervakuum betrieben werden kann. Das Gerät muss eine maximale Auflösung von mindestens 1.0 nm erzielen, die Detektion von unterschiedlichen Elektronensignalen ermöglichen und über eine motorisierte Probenbühne von mindestens 100 mm x 100 mm lateralen Verfahrweg verfügen.3D-Profil-Messsystem
ITWMPR1258923 3D-Profil-Messsystem Inhaltliche Anforderungen Ausgeschrieben wird die Lieferung, der Aufbau und die Inbetriebnahme der Hardware für ein Scanzentrum das das geplante Schleifzentrum zur automatisierten Produktion von Farbedelsteinen ergänzt. Die Leistung umfasst den Messkopf, das Steuergerät, die Betrachtung und Analysesoftware sowie die zugehörige Dokumentation, das Bildzusammensetzungsmodul und eine Schulung zum Betrieb des 3D-Profil-Messsystems. Die zu liefernden Komponenten müssen als zusammenhängendes Produkt ausgelegt werden. Sie müssen die Identifikation und das Scannen von auf HSK32-Aufnahmen befindlichen Farbedelsteinen unterstützen. Die Anlage muss so aufgebaut werden, dass die Hardwarekomponenten für eine spätere Anbindung an die übergeordnete Produktionssteuerung vorbereitet sind. Die Leistung umfasst alle für einen funktionsfähigen Betrieb erforderlichen mechanischen, elektrischen, steuerungstechnischen und sicherheitstechnischen Bestandteile der beschriebenen Hardware. Dazu gehören auch Montage, Einrichtung, Kalibration, Funktionsprüfung und Einweisung in die gelieferten Komponenten. Arbeitspaket 1: 3D-Profil-Messsystem Der Auftragnehmer liefert ein 3D-Profil-Messsystem zur kontaktlosen, hochpräzisen Oberflächenmessung und Analyse von Farbedelsteinen oder vergleichbaren hochpräzisen Messobjekten. Das System muss die Erfassung von Konturen, Ebenheiten, Rauheiten sowie Form und Lagetoleranzen mit einem Gerät ermöglichen. Die Messung muss kontaktlos erfolgen und großflächige 3D-Oberflächendaten innerhalb kurzer Messzeiten bereitstellen. Das System muss Messobjekte benutzerunabhängig erfassen können, indem Messbereich, Messbedingungen, Helligkeit, Messmodus und Fokussierung automatisch eingestellt werden. Zur Erfassung unterschiedlicher Oberflächen muss ein HDR-Erfassungsalgorithmus vorhanden sein, der sowohl matte als auch glänzende sowie stark oder schwach reflektierende Materialien zuverlässig messen kann. Die Anzeigeauflösung der Höhenmessung muss 0,1 µm betragen. Arbeitspaket 2: Messkopf, Steuergerät und Objekttisch Der Auftragnehmer liefert den Messkopf und das Steuergerät des 3D-Profil-Messsystems einschließlich der für den Betrieb erforderlichen Betrachtungs- und Analysesoftware. Das System muss über Makro- und Mikro-Modus verfügen und Messungen mit hoher Auflösung sowie hoher Wiederholgenauigkeit ermöglichen. Für großflächige Messungen muss ein motorisierter Objekttisch beziehungsweise eine entsprechende automatisierte Positionierung vorgesehen sein. Der messbare XY-Bereich muss bis zu 300 mm × 150 mm betragen; die Messhöhe muss für typische Messobjekte des vorgesehenen Einsatzbereichs geeignet sein. Das System muss eine automatische Bereichseinrichtung und eine automatische Fokussierung unterstützen. Arbeitspaket 3: Motorisierte Rotationseinheit Der Auftragnehmer liefert eine motorisierte Rotationseinheit zur Sicherung, Kippung und Drehung des Messobjekts. Die Rotationseinheit muss die Erfassung des Messobjekts aus mehreren Richtungen ermöglichen, damit Konturen, Rückseitenflächen und senkrechte Wandbereiche ohne zerstörende Vorbereitung beurteilt werden können. Die Rotationserfassung muss so ausgelegt sein, dass keine vorherige Zentrierung oder Anfangskalibrierung durch den Benutzer erforderlich ist. Die Einheit muss Messungen ohne tote Winkel unterstützen und eine präzise Reproduktion von Querschnittsformen ermöglichen. Die motorisierte Rotationseinheit muss insbesondere die Messung von Wandstärken, Überhängen, schmalen Bereichen und rückseitigen Flächen unterstützen, soweit dies für die Prüfung von Farbedelsteinen oder vergleichbaren Messobjekten erforderlich ist. Arbeitspaket 4: Mess- und Analysefunktionen Das System muss umfangreiche Mess- und Analysefunktionen bereitstellen. Hierzu gehören Profilmessungen, 2D-Messungen, Ebenheitsmessungen, Volumen- und Flächenmessungen, Rauheitsmessungen sowie Messungen von Form- und Lagetoleranzen. Die Rauheitsmessung muss gängige Rauheitsparameter wie Ra unautomatisierte chemische Bildgebung zur Spektralanalyse
Helmholtz-Zentrum hereon GmbHGeesthachtSpezifikationen Position QCL (Quantenkaskadenlaser) basiertes IR-Imaging System Spektrometer - Spektralbereich: mindestens 1800 - 975 cm-1 - Spektrale Auflösung: besser als 0.5 cm-1 - Lebensdauer der IR-Quelle > 5 Jahre - Signal-zu-Rauchen-Verhältnis: ~ 50000:1 bei 5 s Messzeit (spektrale Auflösung 4 cm-1) oder besser QCL- basiertes oder kombiniertes FPA/QCL-basiertes IR Imaging System: - Analyse einer Fläche bzw. eines Filters mit 10 x 10 mm in etwa 6 h oder schneller - Detektorkühlung ohne flüssigen Stickstoff (thermoelektrische Kühlung favorisiert), da das Gerät auch mobil bzw. in Bereichen mit schlechter Infrastrukturanbindung (z.B. Forschungsschiffe, Forschungsstationen) eingesetzt werden soll - Leistungsfähige, robuste Optik mit entsprechend hoher optischer Vergrößerung im benötigten Spektralbereich zur Erstellung hochaufgelöster Übersichtsbilder und IR Bilder - Messung in Reflektion oder ATR - Räumliche Auflösung ~ 2 µm oder besser - Garantie mindestens 3 Jahre - Verfügbarkeit von Sample Holder, welcher die Messung auf speziellen IR-reflektiven (Transflektionsmessung) und/oder -transparenten (Transmissionsmessung) Filtern ermöglicht sowie von anderen Proben/Geometrien - Kompakter raumsparender Aufbau/Abmessungen - Leistungsfähige schnellbewegliche Stage mit hoher Wiederholpräzision zur schnellen Probenpositionierung und als Basis für eine reproduzierbare chemische Bildgebung - Laterale Auflösung bei der Detektion (Größen-Detektionslimit): Mindestens 10 µm - Möglichkeit Multi-Peak Imaging und Hyperspectral Imaging durchzuführen Datenauswertung Das zu beschaffende System muss mindestens die folgenden Bestandteile zur Datenauswertung enthalten: - Umfangreiche Spektrendatenbanken für die Identifizierung von unterschiedlichsten Polymertypen und anderen Komponenten - Leistungsfähiger Auswertungscomputer (mind. 64 GB Hauptspeicher, min. 1 TB Festplatte, Leistungsfähige CPU) HD Monitor und Softwarepaket für den automatisierten Abgleich der aufgenommenen Spektren und Identifizierung der Polymere oder anderer Verbindungen - Automatisierte Bildbearbeitungs- und Auswertesoftware für die Zusammensetzung der Spektren mit jeweiligen räumlichen (XY)-Informationen zu Partikeln bzw. Faser bzw. deren Größen- und Anzahlermittlung, sowie vollautomatisierte statistischer Datenauswertung bezüglich der detektieren Polymertypen, Partikelanzahl und Partikelgröße - Möglichkeit eigene Spektren- Bibliotheken anlegen zu können - Mikroplastik-spezifische sehr stark automatisierte Softwarelösung für die Erstellung von Statistiken direkt im Anschluss nach (idealerweise quasi-simultan) der Messung (Workflow für die Mikroplastikanalytik sollten enthalten sein) - Möglichkeit, nach der Messung Datenbankzuordnungen inkl. Hit Quality Werten, und geometrische Partikelparameter in gängigen Dateiformaten (z.B. CSV) zu exportieren. - Kostenlose regelmäßig Softwareupdates mindestens für die Dauer der erweiterten GarantiezeitHochleistungs-Massenspektrometer
Universität KonstanzKonstanzLeistungsbeschreibung - Beschaffung eines hochauflösendes Massenspektrometers inklusive vorgelagerter Gasphasen-Ionenseparation sowie HPLC-Geräts. 1. Allgemeine Beschreibung des Beschaffungsvorhabens Das anzuschaffende System muss ein hochauflösendes LC-MS/MS-Massenspektrometer sein, das speziell für ultrasensitive Proteomik-Analysen bis hin zur Einzelzell-Analyse geeignet ist. Das zu beschaffende hochauflösende Massenspektrometer dient der Verstärkung der Infrastrukturplattform des neu gegründeten Single Cell Centers der Universität Konstanz. Das beantragte Gerät soll die am Single Cell Center und am Proteomics Center Konstanz durchgeführten Methoden der massenspektrometrisch-basierten Proteomik ergänzen und erweitern und insbesondere im Bereich der Einzelzell Massenspektrometrie /Single Cell Proteomics (SCP) verstärken. Das Gerät muss dazu geeignet sein, komplexe Proben mit größtmöglicher Auflösung, Geschwindigkeit, Genauigkeit und Sensitivität vermessen und analysieren zu können. Zudem wird das Gerät zur Bestimmung von Protein- Protein Interaktionen mittels cross-linking Massenspektrometrie eingesetzt werden. Das Gerät soll insbesondere der Analyse komplexer Proteome und deren Modifikationen sowie Einzelzell-Messungen im Rahmen verschiedener Projekte im Rahmen der Forschungsverbünde SFB1756 und TRR353 dienen. Im Rahmen dieser Forschungsverbünde soll untersucht werden, welche Auswirkungen unterschiedliche "Trigger" auf das zelluläre Proteom haben und inwieweit unterschiedlichen Stimuli zum Zelltod führen. 2. Leistungsgegenstand Es soll ein hochauflösendes Massenspektrometer mit der Möglichkeit zur vorgelagerten Gasphasen-Ionenseparation sowie ein Hochleistungs-Flüssigkeitschromatographie Gerät beschafft werden. 3.FunktionaleAnforderungen Das anzuschaffende System muss ein hochauflösendes, ultraschnelles LC-MS/MSMassenspektrometer sein, das speziell für ultrasensitive Proteomik-Analysen bis hin zur Einzelzell-Analyse optimiert ist und welches für den Betrieb in einer Core-Facility für Hochdurchsatz-Proteomik geeignet ist. Hieraus ergibt sich der Bedarf nach einem Massenspektrometer, das sehr hohe Sequenziergeschwindigkeiten bei gleichzeitig hoher Massengenauigkeit und Auflösung ermöglicht. Eine hohe Auflösung ist notwendig, um komplexe Peptidgemische aus minimalen Probenmengen sicher zu identifizieren. Das System muss zudem eine Sensitivität aufweisen, die geeignet ist für die Analyse einzelner Säugerzellen. Eine sehr hohe Fragmentationsrate ist zwingend notwendig, um auch bei kurzen LC-Gradienten eine ausreichende Peptididentifikation zu erreichen. Zudem ist ein großer dynamischer Bereich notwendig, um sowohl hoch- als auch niedrig abundante Proteine einzelner Zellen zu erfassen. Das System muss zusätzlich geeignet sein Label-freie Quantifizierung (LFQ), Data-Independent Acquisition (DIA) sowie Multiplex-Quantifizierung mittels isobarer Tags (z. B. TMT) durchzuführen. Zudem ist eine hoher Reproduzierbarkeit essenziell für große Single-Cell-Datensätze mit hunderten bis tausenden von Zellen. Diese Anforderungen sind für Single-Cell-Proteomik erforderlich, da Peptidsignale bei sehr geringen Intensitäten auftreten und interferierende Signale zuverlässig getrennt werden müssen. Die hohen Fragmentierungsraten sind aufgrund der extrem komplexen Peptidmischungen bei SCP -Anwendungen erforderlich und um trotz geringer Signalintensitäten ausreichend viele Fragmentinformationen generieren zu können. 4. Technische Mindestanforderungen System daher zwingend eine Kombination aus sehr hoher Massengenauigkeit, ultrahoher Auflösung und extrem hoher Fragmentierungsrate ermöglichen. Eine Fragmentierungsrate von bis zu 270 MS/MS-Spektren pro Sekunde, eine MS-Auflösung von ?240.000 bei m/z 200 sowie eine Massengenauigkeit von ?2 ppm (ohne externe Kalibration) müssen zwingend erreicht werden. Erforderlich ist zudem die Möglichkeit zur gleichzeitigen Durchführung hochauflösender MS1-Messungen und ultraschneller MS/MS-Messungen, wobei der gesamter Scanzyklus für proteomische Anwendungen unter ?1 Sekunde liegen soll. Das System muss zudem zwingend über eine vorgelagerte Gasphasen-Ionenseparation verfügen, die eine signifikante Reduktion chemischer Interferenzen bei ultra-low-input Proteomik ermöglicht und für TMT-basierte Single-Cell-Workflows validiert ist und für cross-linking Ansätze geeignet ist. 5. Kompatibilität / Integration Eine Kompatibilität mit bestehenden Software Systemen zur Daten Analyse und Prozessierung sowie eine Integration in die bestehende Infrastruktur zur Datenspeicherung muss gewährleistet sein. 6. Service / Wartung / Support Lieferung, Installation, Training und 24 Monate Gewährleistung auf Massenspektrometer , HPLC System und Gasphasen-Ionenseparation sind erforderlich.Beschaffung eines Röntgendiffraktometers
Westsächsische Hochschule ZwickauZwickauFrist: 22. JuliRöntgendiffraktometer als Komplettsystem Zur Analyse von Materialien und Materialoberflächen insbesondere für Pulverdiffraktometrie, qualitative und quantitative Phasenanalyse, Kristallstrukturanalyse, Spannungsanalyse, Texturanalyse, Röntgenreflektometrie im Bereich Forschung und Lehre an der WHZ, mit folgenden Anforderungen: 1. Röntgengenerator 1.1 Stabiles Hochspannungsnetzteil 1.2 Anodenspannung ? 20 kV 1.3 Kontinuierliche Leistung ? 3 KW 1.4 Integrierte energie- und ressourceneffiziente Kühlung 1.5 Sensoren für Kühlung (Temperatur, Durchfluss und Druck) 2. Röntgenquellen 2.1 Leistungsstarke Röntgenröhre, für Cu ? 2 KW 2.2 Einfacher justagefreier Wechsel zwischen Strich- und Punktfokus 2.3 Leicht wechselbar 2.4 Zusätzliche Röntgenröhren, z.B. Co, einfach einsetzbar 2.5 Lange Lebensdauer 3. Röntgenoptik 3.1 Flexible primäre Röntgenoptik für Messungen mit divergentem Strahl, parallelem Strahl und für Hochauflösung 3.2 Motorisierter Wechsel zwischen Parallelstrahl und fokussierender Geometrie 3.3 Geeignete Filter und Monochromatoren 3.4 Sekundäre Röntgenoptik mit Blenden und Soller, sowie einfachem motorisiertem Wechsel 3.5 Robust und lange Lebensdauer 4. Energieanalysator mit 2D-Detektor 4.1 Leistungsfähiger mehrdimensionaler Detektor, Zählrate >108, Ortsauflösung < 100 ?m 4.2 Energieauflösung < 400 eV (bei RT) 4.3 Ohne zusätzliche Kühlung 4.4 Geeignet für schnelle und langsame Datererfassung 4.5 Hohe Effizienz gegenüber Cu-, Co- und Cr-Strahlung 4.6 Softwaregesteuerte Kontrolle der Größe des Detektorfensters, des Probe-Detektor-Abstandes 5. Goniometer 5.1 Präzises und wartungsfreies Mehrkreis-Goniometer, Genauigkeit < 0.01°, kleinste Schrittweite <0.001° 5.2 Goniometerdurchmesser ? 50 cm) 5.3 Großer Winkelbereich (von ? 0° bis ? 150°) 5.4 Vollmotorisiert 5.5 Motorisierte Eulerwiege zur Durchführung von Textur- und Spannungsmessungen 6. Probenhalterung und Probeneinrichtung 6.1 Motorisierter, softwaregesteuerter x-y-z Probentisch, Verfahrwege: mindestens 25 mm in X, 70 mm in Y und 50 mm in Z, Tragkraft >1 kg 6.2 Möglichkeit zur Untersuchung verschiedener Probengeometrien und -größen 6.3 Vakuumhalterung von Flach- und Glattproben mit Pumpe 6.4 Adapter und Halter für verschiedene Proben 6.5 Streustrahlabschirmung 6.6 Möglichkeit zur genauen Justierung der Probe 7. Gehäuse 7.1 Vollschutzgerät mit Bauartzulassung entsprechend den nationalen und europäischen Sicherheitsnormen und Maschinenstandards, Strahlungsdosis < 1µSv/h 7.2 Einfacher Zugriff auf den Innenraum und hohe Bedienerfreundlichkeit 7.3 Anzeige des Systemstatus, Beleuchtung 7.4 Gewicht < 800 kg 7.5 Abmessungen (LxBxH) < 2 m x 2m x 2m 7.6 Geräuschpegel < 60 dB 8. Zubehör 8.1 Blenden mit verschiedener Größe 8.2 Filter mit verschiedener Dicke und Material für die Filterung von Röntgenstrahlung unterschiedlicher Wellenlänge 8.3 Mikromasken 8.4 Kollimatoren mit verschiedenen Dimensionen 8.5 Anschlusskabel, Schläuche, Filter, Werkzeug 9. PC mit Software 9.1 Leistungsfähiger Messrechner (Arbeitsspeicher >16 GB, Festplatte >1 TB, aktuelles Betriebssystem, mind. 2 Monitore) 9.2 Intuitiv zu bedienende und funktionelle Software mit grafischer Benutzeroberfläche für Kontrolle der Hardware und Durchführung von Messaufgaben 9.3 Software für die umfassende Auswertung und mathematische Analyse von Daten der Pulverdiffraktometrie, qualitative/quantitative Phasenanalyse, Kristallstrukturanalyse, Spannungsanalyse, Texturanalyse und Röntgenreflektometrie 9.4 Materialdatenbank 9.5 Softwarepflege und Aktualisierung 9.6 Softwarelizenzen für mehrere Rechner (? 5) 10. Sonstiges 10.1 Komponentenerkennung für hohe Bediensicherheit 10.2 Option für die spätere Ergänzung von Komponenten z.B. für die in-situ Analytik 10.3 Kundendienst mit deutschsprachigem Support und technischem Vor-Ort-Service Verpackung / Transport / Abladen / Einbringen / Installation / Schulung 1.1 Verpacken, Transport, Abladen, Einbringen, Installation vor Ort, Installation der Soft- und Hardware 1.2 Schulung der Anwender (Bedienung der Soft- und Hardware) 1.3 Geräte- und Kompentenbeschreibungen in deutscher und englischer Sprache, Schulungsmaterial Leistungsort: Westsächsische Hochschule Zwickau Hochtechnologiezentrum, 1. OG, Raum 2103 Peter Bräuer Str. 5/9 08056 Zwickau Fracht bis zur ebenerdig und rollend erreichbaren Verwendungsstelle Lieferzeit: max. 40 KW nach Beauftragungsimultanes thermisches Analysegerät (STA)
Universität Duisburg-EssenDuisburgLieferleistung und Inbetriebnahme eines simultan thermische Analysegeräts mit den nachfolgenden Mindestmerkmalen: 1. Temperaturbereich: von 15°C bis max. 1600?°C Arbeitstemperatur und bei einer Dauertemperatur von 1550 °C. Das System muss in diesem Bereich stabil regelbar sein und verschleißfrei im Normalbetrieb gegenüber der Temperatur betrieben werden können. Die Temperaturauflösung im Ofen müssen den Anforderungen hochpräziser Analysen entsprechen (±0,1?K oder besser im Kalibrierzustand). 2. Heiz- und Kühlraten: Individuell regelbare Heizraten von sehr niedrig (1 K/min) bis zu 50 K/min. Die maximale Heizgeschwindigkeit muss mindestens 50 K/min erreichen, um schnelle Temperaturprogramme fahren zu können. Die Kühlrate muss so hoch sein, dass der Ofenraum bei einer Betriebstemperatur von 1600 °C nach max. 60 min. sicher geöffnet werden kann. Dabei muss gewährleistet werden, dass nach dieser Abkühlzeit kein Verschleiß am Schutzrohr, Thermoelement, Heizstäbe, Waage aufgrund des Temperaturwechsels auftritt. 3. Probengewichtskapazität: Die Thermowaage muss Probenmassen von mindestens 7 g aufnehmen und messen können. Das System muss insgesamt auf eine Proben-Träger-Gesamtlast von 25 g ausgelegt sein, um ausreichend Reserve für Tiegel und Probenmaterial zu bieten. Die Wägezelle muss hochauflösend (Mikrogramm-Bereich) und driftarm sein, um auch Masseänderungen bis zu 100 % präzise zu erfassen. 4. Probenhalterung: Es sind geeignete Probenhalter und Tiegel für verschiedene Probentypen bereitzustellen, insbesondere muss ein Probenhalter vorhanden sein, der die Messung von festen runden Proben (Pellets) mit Durchmessern von 10 - 25 mm ermöglicht. 5. Gasversorgung: Das Gerät muss mittels Peripherie oder integriert die Möglichkeit zum gleichzeitigen Anschluss von mindestens 3 verschiedenen Reaktionsgasen plus einem Schutzgas (Inertgas) bieten. Bei den Reaktionsgasen handelt es sich dabei um 1x H2, 1x CO und 1x Mischgas (reduzierend). Gasflüsse müssen über Massendurchflussregler (MFC) präzise einstellbar und reproduzierbar sein. Ein schneller Gaswechsel bzw. die Programmierung unterschiedlicher Atmosphärenverläufe während einer Messung muss möglich sein (z.B. um von inerter auf oxidierende Atmosphäre umzuschalten). 6. Atmosphärenkontrolle: Das System muss sowohl unter Inertgas (z.B. N2, Ar) als auch unter oxidierenden (z.B. Luft, O2), reduzierenden Bedingungen (z.B. H2/CO) und unter einer feuchten Atmosphäre (Wasserdampf) sicher betrieben werden können. Dabei muss das Gerät bei den benötigten Gasen bis zu 100 % Atmosphärenanteil sicher betrieben werden können. 7. Sicherheit bei Gasbetrieb: Für den Betrieb mit brennbaren, giftigen oder korrosiven Gasen (wie z.B. Wasserstoff, Kohlenmonoxid, etc.) sind entsprechende Sicherheitsvorkehrungen erforderlich. Das System muss über eine flexible Gas-Sicherheitssteuerung verfügen, die z.B. bei Leckagen oder unerwartetem Gasstopp automatisch auf Inertgas umschaltet und kritische Ventile schließt. Alle gasführenden Teile müssen für die o.g. Gase geeignet und dicht ausgeführt sein. 8. Messsensorik und Genauigkeit: Das STA-Gerät muss sowohl die Massenänderung (TG) als auch die thermischen Effekte (DTA/DSC) simultan an derselben Probe messen. Die Empfindlichkeit und Auflösung der Messsignale müssen hohen Anforderungen genügen: Die Waage muss eine Auflösung im Mikrogramm-Bereich besitzen (typ. 0,1 ?g oder besser), und das DSC/DTA-Modul muss kleinste endotherme/exotherme Effekte im einstelligen Mikrowatt-Bereich detektieren können. Der Temperaturmesssensor (Thermoelement) muss präzise (±0,1 °C), driftarm und mit den unterschiedlichen Reaktionsgasen arbeiten. Dementsprechend sind passende Thermoelemente für die o.g. Reaktionsgase mitzuliefern. Eine Mehrpunkt-Temperaturkalibrierung des Ofens (über den gesamten Bereich) muss durchführbar sein, um Messgenauigkeit sicherzustellen. 9. Steuerungs- und Auswertesoftware: Eine umfassende Software zur Gerätesteuerung und Datenauswertung muss im Lieferumfang enthalten sein. Sie muss die Programmierung von Temperaturprofilen (Heizen, Halten, Kühlen), die Steuerung der Gaszufuhren (inklusive MFC-Regelung sowie die simultane Aufzeichnung der TGA- und DSC/DTA-Daten ermöglichen. Wichtige Auswertefunktionen sind bereitzustellen, u.a.: Darstellung der Masseänderung in % und mg, Berechnung von Massenverluststufen und Rückständen, erste und zweite Ableitung der TG-Kurve (DTG) zur Ereigniserkennung, Auswertung der Wärmestromkurve (z.B. Onset-, Peak- und Endpunktbestimmung von Effekten), Berechnung von Reaktionsenthalpien, baseline-Korrekturen etc. Die Software muss den Vergleich mehrerer Messungen erlauben (Überlagern von Kurven, statistische Auswertung) und den Datenexport in gängige Formate (CSV, Excel, PDF) unterstützen. Die Bedienoberfläche der Software muss in deutscher oder englischer Sprache verfügbar sein und unter aktuellen Windows-Betriebssystemen laufen. Der entsprechende Computer wird je nach der geforderten Mindestspezifikationen bereitgestellt. Für den Betrieb der Software darf es keine Beschränkung in der Anzahl der Geräte, die im Lehrstuhl vorhanden sind, geben. 10. Abgasanalysen: Zur vertieften Emissionsanalyse muss das STA-System mit einem Massenspektrometer (MS) angeboten werden, das während der Messung freigesetzten Gase analysiert. Das Gerät muss dafür über eine entsprechende Schnittstelle bzw. einen Auslass verfügen; dieser muss über eine beheizte min. 250 °C Transferleitung angeschlossen werden, um Kondensation zu vermeiden. Die Software (siehe oben) muss mit einer solchen gekoppelten Gasanalyse synchronisieren können (d.h. Trigger/Synchronisations-Signale bereitstellen oder empfangen). 11. Elektrische Ausführung und Normen: Das gesamte System muss den in Deutschland geltenden elektrischen Sicherheitsbestimmungen entsprechen. Insbesondere ist die CE-Kennzeichnung Voraussetzung . Weitere Voraussetzungen sind der Leistungsbeschreibung zu entnehmen.Lasermikrobearbeitungsanlage und Lasersystem
Institut für Oberflächen-und Schichttechnik GmbHKaiserslauternFrist: 17. Aug.Gegenstand des Beschaffungsvorhabens ist die Lieferung, Installation, Inbetriebnahme sowie betriebsbereite Übergabe einer hochpräzisen Laserbearbeitungsanlage zur Mikromaterialbearbeitung einschließlich integrierter Ultrakurzpulslaser-(UKP)-Strahlquelle, Schulung des Bedienpersonals sowie vollständiger Systemdokumentation. Das System ermöglicht die hochpräzise Bearbeitung metallischer, keramischer, polymerer, glasbasierter, kristalliner und halbleitender Werkstoffe sowie von Faserverbundmaterialien im Mikro- und Submikrometerbereich, unter Einhaltung konstanter Bearbeitungsqualität und Wiederholgenauigkeit. Es wird für Forschungs- und Entwicklungsprojekte, industrielle Kooperationen sowie technologieorientierte Prozessentwicklungen eingesetzt. Das angebotene System muss als vollständig integrierte, betriebsbereite Gesamtanlage bereitgestellt werden. Alle für den bestimmungsgemäßen Betrieb erforderlichen Komponenten, Nebenleistungen und sicherheitsrelevanten Einrichtungen sind Bestandteil des Angebots, auch wenn sie nicht ausdrücklich einzeln aufgeführt sind. Die Laseranlage ist für Forschungs-, Entwicklungs- und anwendungsnahe Prozessentwicklungen im Bereich der Ultrakurzpuls-Laserbearbeitung vorgesehen. Sie soll insbesondere für folgende Anwendungen eingesetzt werden: - Mikrostrukturierung und Mikromaterialbearbeitung metallischer Werkstoffe und Legierungen. - Strukturierung und Bearbeitung funktionaler Materialien, insbesondere Halbleiter. - Bearbeitung sprödharter Materialien, wie Gläser, Kristalle und Keramiken. - Strukturierung polymerer Werkstoffe und Verbundmaterialien, einschließlich faserverstärkter Kunststoffe. - Mikrobohren, Mikroschneiden und selektiver Materialabtrag, beispielsweise zur Herstellung von Bohrungen, Kanälen, Kavitäten oder zur Bearbeitung von Dünnschichten. - Präzise Oberflächenmodifikation und -funktionalisierung zur gezielten Anpassung von Oberflächeneigenschaften. - Synchrone, simultane 5-Achs-Bearbeitung komplexer Geometrien, insbesondere rotationssymmetrischer Bauteile, ohne Step-by-Step-Bearbeitung zur Erhöhung von Präzision, Prozessqualität und Effizienz. - Hochpräzise Probenpräparation für nachgelagerte hochauflösende analytische Untersuchungen, beispielsweise zur Vorbereitung von Querschliffen, Mikrostrukturen oder freigelegten Materialgrenzen für mikroskopische oder spektroskopische Analysen. - Forschungs- und Entwicklungsarbeiten zur Prozessentwicklung in der Ultrakurzpuls-Laserbearbeitung. Probengeometrie: - Unterstützung der Bearbeitung von planaren Proben, strukturierten Oberflächen sowie dreidimensionalen Bauteilen. - Aufnahme von sehr kleinen Proben (Sub-Millimeterbereich) bis hin zu größeren Substraten oder Bauteilen. - Der Arbeitsbereich muss die Bearbeitung von Proben mit lateralen Abmessungen von mindestens ca. 300 mm × 300 mm ermöglichen. - Möglichkeit zur Bearbeitung größerer Bauteile durch Achsverfahrweg. - Die Anlage muss eine maximale Probenhöhe von mindestens 50-100 mm aufnehmen können, um auch größere Bauteile oder Spannvorrichtungen integrieren zu können. - Die Anlage muss die Bearbeitung von Proben mit einer maximalen Masse von mindestens 6 kg ermöglichen. - Zusätzlich muss die gleichzeitige Bearbeitung mehrerer kleinerer Proben ohne Einschränkung der Positioniergenauigkeit möglich sein. - Reproduzierbare Wiederauffindbarkeit von Bearbeitungspositionen. Das System muss die hochpräzise, reproduzierbare Mikromaterialbearbeitung fester Werkstoffe mittels Ultrakurzpulslaserstrahlung (UKP) ermöglichen. Hierzu muss es eine stabile Laserstrahlquelle, eine präzise Strahlführung sowie ein synchronisiertes Positioniersystem bereitstellen, um definierte Strukturen mit hoher geometrischer Genauigkeit und minimaler thermischer Beeinflussung zu erzeugen. Zur Erreichung der erforderlichen Präzision und Wiederholgenauigkeit im Submikrometerbereich ist ein hochsteifes Tragsystem zwingend erforderlich, dass die mechanische Stabilität aller Achsen gewährleistet (z. B. Granitportal oder gleichwertig). Folgende Kernfunktionen sind zwingend bereitzustellen: - Laserquelle mit einer Grundwellenlänge von 1064 nm oder 1030 nm (IR) mit integrierten Frequenzkonversionsstufen zur gleichwertigen Bereitstellung der 2. Harmonischen (SHG; VIS) und 3. Harmonischen (THG; UV) - Präzise Laserstrukturierung (2D-Bearbeitung, 2.5D-/3D-Bearbeitung und Tiefenstrukturierung) unter Einsatz eines 2-Achs-Galvanometerscanner zur Ablenkung von Ultrakurzpulslaserstrahlung zur schnellen und präzisen Ablenkung des Laserstrahls und die Möglichkeit zur synchronen, simultanen 5-Achs-Bearbeitung komplexer Geometrien, insbesondere rotationssymmetrischer Bauteile, ohne Step-by-Step-Bearbeitung zur Erhöhung von Präzision, Prozessqualität und Effizienz. - Das System muss geeignete Möglichkeiten zur Überwachung, Analyse und Dokumentation der Laserbearbeitungsprozesse bereitstellen. Ziel ist es, Bearbeitungsprozesse nachvollziehbar zu gestalten, Prozessstabilität zu gewährleisten und eine wissenschaftliche Auswertung zu ermöglichen. - Das System muss eine geeignete Spann- und Prozessumgebung zur Verfügung stellen. - Das System muss eine effiziente, reproduzierbare und weitgehend automatisierbare Prozessführung für die Laserbearbeitung ermöglichen. Hierzu sind geeignete Software- und Schnittstellenlösungen bereitzustellen, die eine einfache Integration in bestehende Entwicklungs- und Produktionsworkflows erlauben.Lasermikrobearbeitungsanlage und Lasersystem
Institut für Oberflächen-und Schichttechnik GmbHKaiserslauternFrist: 17. Aug.Gegenstand des Beschaffungsvorhabens ist die Lieferung, Installation, Inbetriebnahme sowie betriebsbereite Übergabe einer hochpräzisen Laserbearbeitungsanlage zur Mikromaterialbearbeitung einschließlich integrierter Ultrakurzpulslaser-(UKP)-Strahlquelle, Schulung des Bedienpersonals sowie vollständiger Systemdokumentation. Das System ermöglicht die hochpräzise Bearbeitung metallischer, keramischer, polymerer, glasbasierter, kristalliner und halbleitender Werkstoffe sowie von Faserverbundmaterialien im Mikro- und Submikrometerbereich, unter Einhaltung konstanter Bearbeitungsqualität und Wiederholgenauigkeit. Es wird für Forschungs- und Entwicklungsprojekte, industrielle Kooperationen sowie technologieorientierte Prozessentwicklungen eingesetzt. Das angebotene System muss als vollständig integrierte, betriebsbereite Gesamtanlage bereitgestellt werden. Alle für den bestimmungsgemäßen Betrieb erforderlichen Komponenten, Nebenleistungen und sicherheitsrelevanten Einrichtungen sind Bestandteil des Angebots, auch wenn sie nicht ausdrücklich einzeln aufgeführt sind. Die Laseranlage ist für Forschungs-, Entwicklungs- und anwendungsnahe Prozessentwicklungen im Bereich der Ultrakurzpuls-Laserbearbeitung vorgesehen. Sie soll insbesondere für folgende Anwendungen eingesetzt werden: - Mikrostrukturierung und Mikromaterialbearbeitung metallischer Werkstoffe und Legierungen. - Strukturierung und Bearbeitung funktionaler Materialien, insbesondere Halbleiter. - Bearbeitung sprödharter Materialien, wie Gläser, Kristalle und Keramiken. - Strukturierung polymerer Werkstoffe und Verbundmaterialien, einschließlich faserverstärkter Kunststoffe. - Mikrobohren, Mikroschneiden und selektiver Materialabtrag, beispielsweise zur Herstellung von Bohrungen, Kanälen, Kavitäten oder zur Bearbeitung von Dünnschichten. - Präzise Oberflächenmodifikation und -funktionalisierung zur gezielten Anpassung von Oberflächeneigenschaften. - Synchrone, simultane 5-Achs-Bearbeitung komplexer Geometrien, insbesondere rotationssymmetrischer Bauteile, ohne Step-by-Step-Bearbeitung zur Erhöhung von Präzision, Prozessqualität und Effizienz. - Hochpräzise Probenpräparation für nachgelagerte hochauflösende analytische Untersuchungen, beispielsweise zur Vorbereitung von Querschliffen, Mikrostrukturen oder freigelegten Materialgrenzen für mikroskopische oder spektroskopische Analysen. - Forschungs- und Entwicklungsarbeiten zur Prozessentwicklung in der Ultrakurzpuls-Laserbearbeitung. Probengeometrie: - Unterstützung der Bearbeitung von planaren Proben, strukturierten Oberflächen sowie dreidimensionalen Bauteilen. - Aufnahme von sehr kleinen Proben (Sub-Millimeterbereich) bis hin zu größeren Substraten oder Bauteilen. - Der Arbeitsbereich muss die Bearbeitung von Proben mit lateralen Abmessungen von mindestens ca. 300 mm × 300 mm ermöglichen. - Möglichkeit zur Bearbeitung größerer Bauteile durch Achsverfahrweg. - Die Anlage muss eine maximale Probenhöhe von mindestens 50-100 mm aufnehmen können, um auch größere Bauteile oder Spannvorrichtungen integrieren zu können. - Die Anlage muss die Bearbeitung von Proben mit einer maximalen Masse von mindestens 6 kg ermöglichen. - Zusätzlich muss die gleichzeitige Bearbeitung mehrerer kleinerer Proben ohne Einschränkung der Positioniergenauigkeit möglich sein. - Reproduzierbare Wiederauffindbarkeit von Bearbeitungspositionen. Das System muss die hochpräzise, reproduzierbare Mikromaterialbearbeitung fester Werkstoffe mittels Ultrakurzpulslaserstrahlung (UKP) ermöglichen. Hierzu muss es eine stabile Laserstrahlquelle, eine präzise Strahlführung sowie ein synchronisiertes Positioniersystem bereitstellen, um definierte Strukturen mit hoher geometrischer Genauigkeit und minimaler thermischer Beeinflussung zu erzeugen. Zur Erreichung der erforderlichen Präzision und Wiederholgenauigkeit im Submikrometerbereich ist ein hochsteifes Tragsystem zwingend erforderlich, dass die mechanische Stabilität aller Achsen gewährleistet (z. B. Granitportal oder gleichwertig). Folgende Kernfunktionen sind zwingend bereitzustellen: - Laserquelle mit einer Grundwellenlänge von 1064 nm oder 1030 nm (IR) mit integrierten Frequenzkonversionsstufen zur gleichwertigen Bereitstellung der 2. Harmonischen (SHG; VIS) und 3. Harmonischen (THG; UV) - Präzise Laserstrukturierung (2D-Bearbeitung, 2.5D-/3D-Bearbeitung und Tiefenstrukturierung) unter Einsatz eines 2-Achs-Galvanometerscanner zur Ablenkung von Ultrakurzpulslaserstrahlung zur schnellen und präzisen Ablenkung des Laserstrahls und die Möglichkeit zur synchronen, simultanen 5-Achs-Bearbeitung komplexer Geometrien, insbesondere rotationssymmetrischer Bauteile, ohne Step-by-Step-Bearbeitung zur Erhöhung von Präzision, Prozessqualität und Effizienz. - Das System muss geeignete Möglichkeiten zur Überwachung, Analyse und Dokumentation der Laserbearbeitungsprozesse bereitstellen. Ziel ist es, Bearbeitungsprozesse nachvollziehbar zu gestalten, Prozessstabilität zu gewährleisten und eine wissenschaftliche Auswertung zu ermöglichen. - Das System muss eine geeignete Spann- und Prozessumgebung zur Verfügung stellen. - Das System muss eine effiziente, reproduzierbare und weitgehend automatisierbare Prozessführung für die Laserbearbeitung ermöglichen. Hierzu sind geeignete Software- und Schnittstellenlösungen bereitzustellen, die eine einfache Integration in bestehende Entwicklungs- und Produktionsworkflows erlauben.Lasermikrobearbeitungsanlage und Lasersystem
Institut für Oberflächen-und Schichttechnik GmbHKaiserslauternFrist: 17. Aug.Gegenstand des Beschaffungsvorhabens ist die Lieferung, Installation, Inbetriebnahme sowie betriebsbereite Übergabe einer hochpräzisen Laserbearbeitungsanlage zur Mikromaterialbearbeitung einschließlich integrierter Ultrakurzpulslaser-(UKP)-Strahlquelle, Schulung des Bedienpersonals sowie vollständiger Systemdokumentation. Das System ermöglicht die hochpräzise Bearbeitung metallischer, keramischer, polymerer, glasbasierter, kristalliner und halbleitender Werkstoffe sowie von Faserverbundmaterialien im Mikro- und Submikrometerbereich, unter Einhaltung konstanter Bearbeitungsqualität und Wiederholgenauigkeit. Es wird für Forschungs- und Entwicklungsprojekte, industrielle Kooperationen sowie technologieorientierte Prozessentwicklungen eingesetzt. Das angebotene System muss als vollständig integrierte, betriebsbereite Gesamtanlage bereitgestellt werden. Alle für den bestimmungsgemäßen Betrieb erforderlichen Komponenten, Nebenleistungen und sicherheitsrelevanten Einrichtungen sind Bestandteil des Angebots, auch wenn sie nicht ausdrücklich einzeln aufgeführt sind. Die Laseranlage ist für Forschungs-, Entwicklungs- und anwendungsnahe Prozessentwicklungen im Bereich der Ultrakurzpuls-Laserbearbeitung vorgesehen. Sie soll insbesondere für folgende Anwendungen eingesetzt werden: - Mikrostrukturierung und Mikromaterialbearbeitung metallischer Werkstoffe und Legierungen. - Strukturierung und Bearbeitung funktionaler Materialien, insbesondere Halbleiter. - Bearbeitung sprödharter Materialien, wie Gläser, Kristalle und Keramiken. - Strukturierung polymerer Werkstoffe und Verbundmaterialien, einschließlich faserverstärkter Kunststoffe. - Mikrobohren, Mikroschneiden und selektiver Materialabtrag, beispielsweise zur Herstellung von Bohrungen, Kanälen, Kavitäten oder zur Bearbeitung von Dünnschichten. - Präzise Oberflächenmodifikation und -funktionalisierung zur gezielten Anpassung von Oberflächeneigenschaften. - Synchrone, simultane 5-Achs-Bearbeitung komplexer Geometrien, insbesondere rotationssymmetrischer Bauteile, ohne Step-by-Step-Bearbeitung zur Erhöhung von Präzision, Prozessqualität und Effizienz. - Hochpräzise Probenpräparation für nachgelagerte hochauflösende analytische Untersuchungen, beispielsweise zur Vorbereitung von Querschliffen, Mikrostrukturen oder freigelegten Materialgrenzen für mikroskopische oder spektroskopische Analysen. - Forschungs- und Entwicklungsarbeiten zur Prozessentwicklung in der Ultrakurzpuls-Laserbearbeitung. Probengeometrie: - Unterstützung der Bearbeitung von planaren Proben, strukturierten Oberflächen sowie dreidimensionalen Bauteilen. - Aufnahme von sehr kleinen Proben (Sub-Millimeterbereich) bis hin zu größeren Substraten oder Bauteilen. - Der Arbeitsbereich muss die Bearbeitung von Proben mit lateralen Abmessungen von mindestens ca. 300 mm × 300 mm ermöglichen. - Möglichkeit zur Bearbeitung größerer Bauteile durch Achsverfahrweg. - Die Anlage muss eine maximale Probenhöhe von mindestens 50-100 mm aufnehmen können, um auch größere Bauteile oder Spannvorrichtungen integrieren zu können. - Die Anlage muss die Bearbeitung von Proben mit einer maximalen Masse von mindestens 6 kg ermöglichen. - Zusätzlich muss die gleichzeitige Bearbeitung mehrerer kleinerer Proben ohne Einschränkung der Positioniergenauigkeit möglich sein. - Reproduzierbare Wiederauffindbarkeit von Bearbeitungspositionen. Das System muss die hochpräzise, reproduzierbare Mikromaterialbearbeitung fester Werkstoffe mittels Ultrakurzpulslaserstrahlung (UKP) ermöglichen. Hierzu muss es eine stabile Laserstrahlquelle, eine präzise Strahlführung sowie ein synchronisiertes Positioniersystem bereitstellen, um definierte Strukturen mit hoher geometrischer Genauigkeit und minimaler thermischer Beeinflussung zu erzeugen. Zur Erreichung der erforderlichen Präzision und Wiederholgenauigkeit im Submikrometerbereich ist ein hochsteifes Tragsystem zwingend erforderlich, dass die mechanische Stabilität aller Achsen gewährleistet (z. B. Granitportal oder gleichwertig). Folgende Kernfunktionen sind zwingend bereitzustellen: - Laserquelle mit einer Grundwellenlänge von 1064 nm oder 1030 nm (IR) mit integrierten Frequenzkonversionsstufen zur gleichwertigen Bereitstellung der 2. Harmonischen (SHG; VIS) und 3. Harmonischen (THG; UV) - Präzise Laserstrukturierung (2D-Bearbeitung, 2.5D-/3D-Bearbeitung und Tiefenstrukturierung) unter Einsatz eines 2-Achs-Galvanometerscanner zur Ablenkung von Ultrakurzpulslaserstrahlung zur schnellen und präzisen Ablenkung des Laserstrahls und die Möglichkeit zur synchronen, simultanen 5-Achs-Bearbeitung komplexer Geometrien, insbesondere rotationssymmetrischer Bauteile, ohne Step-by-Step-Bearbeitung zur Erhöhung von Präzision, Prozessqualität und Effizienz. - Das System muss geeignete Möglichkeiten zur Überwachung, Analyse und Dokumentation der Laserbearbeitungsprozesse bereitstellen. Ziel ist es, Bearbeitungsprozesse nachvollziehbar zu gestalten, Prozessstabilität zu gewährleisten und eine wissenschaftliche Auswertung zu ermöglichen. - Das System muss eine geeignete Spann- und Prozessumgebung zur Verfügung stellen. - Das System muss eine effiziente, reproduzierbare und weitgehend automatisierbare Prozessführung für die Laserbearbeitung ermöglichen. Hierzu sind geeignete Software- und Schnittstellenlösungen bereitzustellen, die eine einfache Integration in bestehende Entwicklungs- und Produktionsworkflows erlauben.simultanes thermisches Analysegerät (STA)
Universität Duisburg-EssenDuisburgFrist: 07. JuliLieferleistung und Inbetriebnahme eines simultan thermische Analysegeräts mit den nachfolgenden Mindestmerkmalen: 1. Temperaturbereich: von 15°C bis max. 1600?°C Arbeitstemperatur und bei einer Dauertemperatur von 1550 °C. Das System muss in diesem Bereich stabil regelbar sein und verschleißfrei im Normalbetrieb gegenüber der Temperatur betrieben werden können. Die Temperaturauflösung im Ofen müssen den Anforderungen hochpräziser Analysen entsprechen (±0,1?K oder besser im Kalibrierzustand). 2. Heiz- und Kühlraten: Individuell regelbare Heizraten von sehr niedrig (1 K/min) bis zu 50 K/min. Die maximale Heizgeschwindigkeit muss mindestens 50 K/min erreichen, um schnelle Temperaturprogramme fahren zu können. Die Kühlrate muss so hoch sein, dass der Ofenraum bei einer Betriebstemperatur von 1600 °C nach max. 60 min. sicher geöffnet werden kann. Dabei muss gewährleistet werden, dass nach dieser Abkühlzeit kein Verschleiß am Schutzrohr, Thermoelement, Heizstäbe, Waage aufgrund des Temperaturwechsels auftritt. 3. Probengewichtskapazität: Die Thermowaage muss Probenmassen von mindestens 7 g aufnehmen und messen können. Das System muss insgesamt auf eine Proben-Träger-Gesamtlast von 25 g ausgelegt sein, um ausreichend Reserve für Tiegel und Probenmaterial zu bieten. Die Wägezelle muss hochauflösend (Mikrogramm-Bereich) und driftarm sein, um auch Masseänderungen bis zu 100 % präzise zu erfassen. 4. Probenhalterung: Es sind geeignete Probenhalter und Tiegel für verschiedene Probentypen bereitzustellen, insbesondere muss ein Probenhalter vorhanden sein, der die Messung von festen runden Proben (Pellets) mit Durchmessern von 10 - 25 mm ermöglicht. 5. Gasversorgung: Das Gerät muss mittels Peripherie oder integriert die Möglichkeit zum gleichzeitigen Anschluss von mindestens 3 verschiedenen Reaktionsgasen plus einem Schutzgas (Inertgas) bieten. Bei den Reaktionsgasen handelt es sich dabei um 1x H2, 1x CO und 1x Mischgas (reduzierend). Gasflüsse müssen über Massendurchflussregler (MFC) präzise einstellbar und reproduzierbar sein. Ein schneller Gaswechsel bzw. die Programmierung unterschiedlicher Atmosphärenverläufe während einer Messung muss möglich sein (z.B. um von inerter auf oxidierende Atmosphäre umzuschalten). 6. Atmosphärenkontrolle: Das System muss sowohl unter Inertgas (z.B. N2, Ar) als auch unter oxidierenden (z.B. Luft, O2), reduzierenden Bedingungen (z.B. H2/CO) und unter einer feuchten Atmosphäre (Wasserdampf) sicher betrieben werden können. Dabei muss das Gerät bei den benötigten Gasen bis zu 100 % Atmosphärenanteil sicher betrieben werden können. 7. Sicherheit bei Gasbetrieb: Für den Betrieb mit brennbaren, giftigen oder korrosiven Gasen (wie z.B. Wasserstoff, Kohlenmonoxid, etc.) sind entsprechende Sicherheitsvorkehrungen erforderlich. Das System muss über eine flexible Gas-Sicherheitssteuerung verfügen, die z.B. bei Leckagen oder unerwartetem Gasstopp automatisch auf Inertgas umschaltet und kritische Ventile schließt. Alle gasführenden Teile müssen für die o.g. Gase geeignet und dicht ausgeführt sein. 8. Messsensorik und Genauigkeit: Das STA-Gerät muss sowohl die Massenänderung (TG) als auch die thermischen Effekte (DTA/DSC) simultan an derselben Probe messen. Die Empfindlichkeit und Auflösung der Messsignale müssen hohen Anforderungen genügen: Die Waage muss eine Auflösung im Mikrogramm-Bereich besitzen (typ. 0,1 ?g oder besser), und das DSC/DTA-Modul muss kleinste endotherme/exotherme Effekte im einstelligen Mikrowatt-Bereich detektieren können. Der Temperaturmesssensor (Thermoelement) muss präzise (±0,1 °C), driftarm und mit den unterschiedlichen Reaktionsgasen arbeiten. Dementsprechend sind passende Thermoelemente für die o.g. Reaktionsgase mitzuliefern. Eine Mehrpunkt-Temperaturkalibrierung des Ofens (über den gesamten Bereich) muss durchführbar sein, um Messgenauigkeit sicherzustellen. 9. Steuerungs- und Auswertesoftware: Eine umfassende Software zur Gerätesteuerung und Datenauswertung muss im Lieferumfang enthalten sein. Sie muss die Programmierung von Temperaturprofilen (Heizen, Halten, Kühlen), die Steuerung der Gaszufuhren (inklusive MFC-Regelung sowie die simultane Aufzeichnung der TGA- und DSC/DTA-Daten ermöglichen. Wichtige Auswertefunktionen sind bereitzustellen, u.a.: Darstellung der Masseänderung in % und mg, Berechnung von Massenverluststufen und Rückständen, erste und zweite Ableitung der TG-Kurve (DTG) zur Ereigniserkennung, Auswertung der Wärmestromkurve (z.B. Onset-, Peak- und Endpunktbestimmung von Effekten), Berechnung von Reaktionsenthalpien, baseline-Korrekturen etc. Die Software muss den Vergleich mehrerer Messungen erlauben (Überlagern von Kurven, statistische Auswertung) und den Datenexport in gängige Formate (CSV, Excel, PDF) unterstützen. Die Bedienoberfläche der Software muss in deutscher oder englischer Sprache verfügbar sein und unter aktuellen Windows-Betriebssystemen laufen. Der entsprechende Computer wird je nach der geforderten Mindestspezifikationen bereitgestellt. Für den Betrieb der Software darf es keine Beschränkung in der Anzahl der Geräte, die im Lehrstuhl vorhanden sind, geben. 10. Abgasanalysen: Zur vertieften Emissionsanalyse muss das STA-System mit einem Massenspektrometer (MS) angeboten werden, das während der Messung freigesetzten Gase analysiert. Das Gerät muss dafür über eine entsprechende Schnittstelle bzw. einen Auslass verfügen; dieser muss über eine beheizte min. 250 °C Transferleitung angeschlossen werden, um Kondensation zu vermeiden. Die Software (siehe oben) muss mit einer solchen gekoppelten Gasanalyse synchronisieren können (d.h. Trigger/Synchronisations-Signale bereitstellen oder empfangen). 11. Elektrische Ausführung und Normen: Das gesamte System muss den in Deutschland geltenden elektrischen Sicherheitsbestimmungen entsprechen. Insbesondere ist die CE-Kennzeichnung Voraussetzung . Weitere Voraussetzungen sind der Leistungsbeschreibung zu entnehmen.
Häufige Fragen zu dieser Ausschreibung
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- Die Angebotsfrist endet am 03. September 2026.
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- Der Auftraggeber ist AIT Austrian Institute of Technology GmbH.
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