Fraunhofer ENAS
teil-automatisches Reinigungssystems für fotolithografische Masken
Beschaffung eines teil-automatischen Reinigungssystems für fotolithografische Masken in der Halbleiterindustrie zur Installation in einem Reinraum. Es müssen 6", 7" und 9" Masken durch ein mögliches Austauschen des Chucks gereinigt werden können. teil-automatisches Reinigungssystems für fotolithografische Masken
Submission deadline: September 16, 2026Type: Tender
Process Technology
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- Tender type:
- Tender
- Contracting authority:
- Fraunhofer ENAS
- Published:
- August 29, 2026
- Deadline:
- September 16, 2026
- Topic:
- Process Technology
Tender description
Beschaffung eines teil-automatischen Reinigungssystems für fotolithografische Masken in der Halbleiterindustrie zur Installation in einem Reinraum. Es müssen 6", 7" und 9" Masken durch ein mögliches Austauschen des Chucks gereinigt werden können. teil-automatisches Reinigungssystems für fotolithografische Masken
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