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Motor- und Getriebekombination für Doppelschneckenextruder inkl. Steuerung
Beschaffung einer Motor-Getriebe-Kombination für Doppelschneckenextruder mit zwei gleichlaufenden Abtriebswellen, inklusive Bedieneinheit. Erforderlich sind hohe Drehzahlen zur Dosierung reaktiver niedrigviskoser Flüssigkeiten.
Submission deadline: June 18, 2026 (expired)Type: Tender
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- Universität Stuttgart
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- May 26, 2026
- Deadline:
- June 18, 2026
- Topic:
- Generators
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Beschaffung einer Motor-Getriebe-Kombination für Doppelschneckenextruder mit zwei gleichlaufenden Abtriebswellen, inklusive Bedieneinheit. Erforderlich sind hohe Drehzahlen zur Dosierung reaktiver niedrigviskoser Flüssigkeiten.
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Institut für Oberflächen-und Schichttechnik GmbHKaiserslauternGegenstand des Beschaffungsvorhabens ist die Lieferung, Installation sowie betriebsbereite Übergabe eines modular aufgebauten Digitalmikroskops mit integrierter Möglichkeit zur laserbasierten Materialanalyse mittels Laser Induced Breakdown Spectroscopy (LIBS). Das System soll als zentrale Analyseplattform für die Eingangskontrolle von Proben im Institut sowie für die Untersuchung und Bewertung laserbearbeiteter Proben eingesetzt werden. Zur Sicherstellung einer sachgerechten und nachvollziehbaren Bewertung der Proben müssen visuelle Inspektion, hochauflösende mikroskopische Charakterisierung, dreidimensionale Oberflächenanalyse sowie eine quantitative Bestimmung der Elementzusammensetzung in einem integrierten Arbeitsablauf möglich sein. Insbesondere bei der Analyse laserbearbeiteter Proben ist es erforderlich, sowohl morphologische Veränderungen und Bearbeitungsspuren als auch materialbedingte Veränderungen zuverlässig und reproduzierbar zu erfassen. Aus den dargestellten Einsatzbedingungen ergibt sich die Notwendigkeit eines Systems mit hoher Flexibilität hinsichtlich Probenaufnahme, Vergrößerungsbereich und Analytik. Hierzu zählen insbesondere die Fähigkeit zur Untersuchung großflächiger Proben (einschließlich Wafern bis 300 mm), ein weiter Vergrößerungsbereich von der Übersichtsdarstellung bis zur hochauflösenden Detailanalyse, die Möglichkeit zur Untersuchung großvolumiger oder ortsfester Objekte mittels geeigneter optischer Komponenten sowie die Integration einer präparationsarmen bzw. präparationsfreien Elementanalyse direkt am Untersuchungsort. Ergänzend soll die laserbasierte Funktionalität des Systems nicht ausschließlich zur materialanalytischen Untersuchung eingesetzt werden, sondern auch zur Erzeugung definierter Markierungen auf Probenoberflächen dienen, um Messpositionen für nachgelagerte Untersuchungsverfahren eindeutig zu kennzeichnen und wiederzufinden. Hierbei kann der beim LIBS-Verfahren entstehende Materialabtrag gezielt genutzt werden. Alternativ kann die Markierung durch ein zusätzlich integriertes oder funktional gleichwertiges Lasersystem erfolgen. In beiden Fällen ist eine hochpräzise und reproduzierbare Positionierung im Bereich weniger Mikrometer erforderlich, um eine eindeutige Zuordnung zwischen optischer Charakterisierung, analytischen Messungen und weiteren Prüfverfahren sicherzustellen. Aus diesem Grund sind entsprechend genaue, motorisierte Positioniersysteme mit geeigneter Steuerungs- und Referenzfunktionalität erforderlich. Das System soll sowohl für Routineaufgaben der Probenannahme und Qualitätsbewertung als auch für wissenschaftliche Untersuchungen, Entwicklungsarbeiten und Kooperationsprojekte eingesetzt werden. Darüber hinaus dient es der Unterstützung von Forschungs- und Transferaktivitäten sowie der Qualifizierung von wissenschaftlichem Personal. Die geplante Beschaffung beinhaltet ein vollständiges Digitalmikroskop mit Materialanalysefunktion mittels LIBS inklusive aller für den Betrieb erforderlichen Komponenten, Steuerrechner, Software und Zubehörteile. Im Einzelnen soll das Mikroskop mindestens folgende Komponenten enthalten: - Stativlösung, die den Betrieb sämtlicher vorgesehenen Untersuchungs- und Analysefunktionen ohne erforderlichen Messkopfwechsel ermöglicht. Die Realisierung kann durch ein entsprechend ausgelegtes Einzelstativ oder durch eine Doppelstativkonfiguration erfolgen. Ziel ist es, einen unterbrechungsarmen Arbeitsablauf ohne zeitaufwändige Umrüstvorgänge sicherzustellen. - Motorisierte (X,Y,Z) mind. 100mm x 100mm Stage mit Durchlicht-Option - Motorisierte (X,Y,Z) mind. 300mm x 300mm Stage (Notwendig für Charakterisierung und Markierung von 300mm Wafern) - 4-fach Objektiv-Revolver mit 5 wechselbaren Objektiven für Vergrößerungen 5x (Macro) -6000x - Polarisations- und Interferenzkontrast-Optionen für die Objektive des Revolvers - Materialanalyse zur Bestimmung der quantitativen Elementzusammensetzung mittels LIBS - Mobile Kamera Option mit einer Vergrößerung von mindestens 20x-1000x (auch mit zwei Objektiven) - Schwenkoptionen der Stative (mind. 90° mit Revolver, mind. 60° mit LIBS) - Abstandserweiterungen der Stative für höhere Proben Geometrien - Steuer-PC mit Mess- und Auswertesoftware Software incl. Bedieneinheit - Auswerte Software auch für Offline-PCsLIBS-Mikroskop 2026
Institut für Oberflächen-und Schichttechnik GmbHKaiserslauternGegenstand des Beschaffungsvorhabens ist die Lieferung, Installation sowie betriebsbereite Übergabe eines modular aufgebauten Digitalmikroskops mit integrierter Möglichkeit zur laserbasierten Materialanalyse mittels Laser Induced Breakdown Spectroscopy (LIBS). Das System soll als zentrale Analyseplattform für die Eingangskontrolle von Proben im Institut sowie für die Untersuchung und Bewertung laserbearbeiteter Proben eingesetzt werden. Zur Sicherstellung einer sachgerechten und nachvollziehbaren Bewertung der Proben müssen visuelle Inspektion, hochauflösende mikroskopische Charakterisierung, dreidimensionale Oberflächenanalyse sowie eine quantitative Bestimmung der Elementzusammensetzung in einem integrierten Arbeitsablauf möglich sein. Insbesondere bei der Analyse laserbearbeiteter Proben ist es erforderlich, sowohl morphologische Veränderungen und Bearbeitungsspuren als auch materialbedingte Veränderungen zuverlässig und reproduzierbar zu erfassen. Aus den dargestellten Einsatzbedingungen ergibt sich die Notwendigkeit eines Systems mit hoher Flexibilität hinsichtlich Probenaufnahme, Vergrößerungsbereich und Analytik. Hierzu zählen insbesondere die Fähigkeit zur Untersuchung großflächiger Proben (einschließlich Wafern bis 300 mm), ein weiter Vergrößerungsbereich von der Übersichtsdarstellung bis zur hochauflösenden Detailanalyse, die Möglichkeit zur Untersuchung großvolumiger oder ortsfester Objekte mittels geeigneter optischer Komponenten sowie die Integration einer präparationsarmen bzw. präparationsfreien Elementanalyse direkt am Untersuchungsort. Ergänzend soll die laserbasierte Funktionalität des Systems nicht ausschließlich zur materialanalytischen Untersuchung eingesetzt werden, sondern auch zur Erzeugung definierter Markierungen auf Probenoberflächen dienen, um Messpositionen für nachgelagerte Untersuchungsverfahren eindeutig zu kennzeichnen und wiederzufinden. Hierbei kann der beim LIBS-Verfahren entstehende Materialabtrag gezielt genutzt werden. Alternativ kann die Markierung durch ein zusätzlich integriertes oder funktional gleichwertiges Lasersystem erfolgen. In beiden Fällen ist eine hochpräzise und reproduzierbare Positionierung im Bereich weniger Mikrometer erforderlich, um eine eindeutige Zuordnung zwischen optischer Charakterisierung, analytischen Messungen und weiteren Prüfverfahren sicherzustellen. Aus diesem Grund sind entsprechend genaue, motorisierte Positioniersysteme mit geeigneter Steuerungs- und Referenzfunktionalität erforderlich. Das System soll sowohl für Routineaufgaben der Probenannahme und Qualitätsbewertung als auch für wissenschaftliche Untersuchungen, Entwicklungsarbeiten und Kooperationsprojekte eingesetzt werden. Darüber hinaus dient es der Unterstützung von Forschungs- und Transferaktivitäten sowie der Qualifizierung von wissenschaftlichem Personal. Die geplante Beschaffung beinhaltet ein vollständiges Digitalmikroskop mit Materialanalysefunktion mittels LIBS inklusive aller für den Betrieb erforderlichen Komponenten, Steuerrechner, Software und Zubehörteile. Im Einzelnen soll das Mikroskop mindestens folgende Komponenten enthalten: - Stativlösung, die den Betrieb sämtlicher vorgesehenen Untersuchungs- und Analysefunktionen ohne erforderlichen Messkopfwechsel ermöglicht. Die Realisierung kann durch ein entsprechend ausgelegtes Einzelstativ oder durch eine Doppelstativkonfiguration erfolgen. Ziel ist es, einen unterbrechungsarmen Arbeitsablauf ohne zeitaufwändige Umrüstvorgänge sicherzustellen. - Motorisierte (X,Y,Z) mind. 100mm x 100mm Stage mit Durchlicht-Option - Motorisierte (X,Y,Z) mind. 300mm x 300mm Stage (Notwendig für Charakterisierung und Markierung von 300mm Wafern) - 4-fach Objektiv-Revolver mit 5 wechselbaren Objektiven für Vergrößerungen 5x (Macro) -6000x - Polarisations- und Interferenzkontrast-Optionen für die Objektive des Revolvers - Materialanalyse zur Bestimmung der quantitativen Elementzusammensetzung mittels LIBS - Mobile Kamera Option mit einer Vergrößerung von mindestens 20x-1000x (auch mit zwei Objektiven) - Schwenkoptionen der Stative (mind. 90° mit Revolver, mind. 60° mit LIBS) - Abstandserweiterungen der Stative für höhere Proben Geometrien - Steuer-PC mit Mess- und Auswertesoftware Software incl. Bedieneinheit - Auswerte Software auch für Offline-PCsLIBS-Mikroskop 2026
Institut für Oberflächen-und Schichttechnik GmbHKaiserslauternGegenstand des Beschaffungsvorhabens ist die Lieferung, Installation sowie betriebsbereite Übergabe eines modular aufgebauten Digitalmikroskops mit integrierter Möglichkeit zur laserbasierten Materialanalyse mittels Laser Induced Breakdown Spectroscopy (LIBS). Das System soll als zentrale Analyseplattform für die Eingangskontrolle von Proben im Institut sowie für die Untersuchung und Bewertung laserbearbeiteter Proben eingesetzt werden. Zur Sicherstellung einer sachgerechten und nachvollziehbaren Bewertung der Proben müssen visuelle Inspektion, hochauflösende mikroskopische Charakterisierung, dreidimensionale Oberflächenanalyse sowie eine quantitative Bestimmung der Elementzusammensetzung in einem integrierten Arbeitsablauf möglich sein. Insbesondere bei der Analyse laserbearbeiteter Proben ist es erforderlich, sowohl morphologische Veränderungen und Bearbeitungsspuren als auch materialbedingte Veränderungen zuverlässig und reproduzierbar zu erfassen. Aus den dargestellten Einsatzbedingungen ergibt sich die Notwendigkeit eines Systems mit hoher Flexibilität hinsichtlich Probenaufnahme, Vergrößerungsbereich und Analytik. Hierzu zählen insbesondere die Fähigkeit zur Untersuchung großflächiger Proben (einschließlich Wafern bis 300 mm), ein weiter Vergrößerungsbereich von der Übersichtsdarstellung bis zur hochauflösenden Detailanalyse, die Möglichkeit zur Untersuchung großvolumiger oder ortsfester Objekte mittels geeigneter optischer Komponenten sowie die Integration einer präparationsarmen bzw. präparationsfreien Elementanalyse direkt am Untersuchungsort. Ergänzend soll die laserbasierte Funktionalität des Systems nicht ausschließlich zur materialanalytischen Untersuchung eingesetzt werden, sondern auch zur Erzeugung definierter Markierungen auf Probenoberflächen dienen, um Messpositionen für nachgelagerte Untersuchungsverfahren eindeutig zu kennzeichnen und wiederzufinden. Hierbei kann der beim LIBS-Verfahren entstehende Materialabtrag gezielt genutzt werden. Alternativ kann die Markierung durch ein zusätzlich integriertes oder funktional gleichwertiges Lasersystem erfolgen. In beiden Fällen ist eine hochpräzise und reproduzierbare Positionierung im Bereich weniger Mikrometer erforderlich, um eine eindeutige Zuordnung zwischen optischer Charakterisierung, analytischen Messungen und weiteren Prüfverfahren sicherzustellen. Aus diesem Grund sind entsprechend genaue, motorisierte Positioniersysteme mit geeigneter Steuerungs- und Referenzfunktionalität erforderlich. Das System soll sowohl für Routineaufgaben der Probenannahme und Qualitätsbewertung als auch für wissenschaftliche Untersuchungen, Entwicklungsarbeiten und Kooperationsprojekte eingesetzt werden. Darüber hinaus dient es der Unterstützung von Forschungs- und Transferaktivitäten sowie der Qualifizierung von wissenschaftlichem Personal. Die geplante Beschaffung beinhaltet ein vollständiges Digitalmikroskop mit Materialanalysefunktion mittels LIBS inklusive aller für den Betrieb erforderlichen Komponenten, Steuerrechner, Software und Zubehörteile. Im Einzelnen soll das Mikroskop mindestens folgende Komponenten enthalten: - Stativlösung, die den Betrieb sämtlicher vorgesehenen Untersuchungs- und Analysefunktionen ohne erforderlichen Messkopfwechsel ermöglicht. Die Realisierung kann durch ein entsprechend ausgelegtes Einzelstativ oder durch eine Doppelstativkonfiguration erfolgen. Ziel ist es, einen unterbrechungsarmen Arbeitsablauf ohne zeitaufwändige Umrüstvorgänge sicherzustellen. - Motorisierte (X,Y,Z) mind. 100mm x 100mm Stage mit Durchlicht-Option - Motorisierte (X,Y,Z) mind. 300mm x 300mm Stage (Notwendig für Charakterisierung und Markierung von 300mm Wafern) - 4-fach Objektiv-Revolver mit 5 wechselbaren Objektiven für Vergrößerungen 5x (Macro) -6000x - Polarisations- und Interferenzkontrast-Optionen für die Objektive des Revolvers - Materialanalyse zur Bestimmung der quantitativen Elementzusammensetzung mittels LIBS - Mobile Kamera Option mit einer Vergrößerung von mindestens 20x-1000x (auch mit zwei Objektiven) - Schwenkoptionen der Stative (mind. 90° mit Revolver, mind. 60° mit LIBS) - Abstandserweiterungen der Stative für höhere Proben Geometrien - Steuer-PC mit Mess- und Auswertesoftware Software incl. Bedieneinheit - Auswerte Software auch für Offline-PCsSpektrometer XPS 2026
Institut für Oberflächen-und Schichttechnik GmbHKaiserslauternDie nachfolgend aufgeführten Funktionen stellen zwingende Mindestanforderungen für die Beschaffung dar. M1 - Bildgebende hochortsauflösende Röntgenphotoelektronenspektroskopie (XPS) als Kerntechnologie (µ-XPS). Das System muss Röntgenphotoelektronenspektroskopie (XPS) mit monochromatischer Al K(alpha)-Strahlung durchführen können. Die Energieauflösung muss <= 0,5 eV (FWHM Ag 3d5/2), auch auf isolierenden Proben betragen. Die laterale Auflösung muss <= 10 µm (Spotgröße) erreichen. Auch gefordert ist eine Bild-gebende XPS Analytik, bei der voll quantifizierbare Element-Konzentrations-Verteilungen aufgenommen werden können. Die möglichen Bildbereiche sollen dabei von ca. 100 Mikrometer Durchmesser bis in den Bereich mehrerer Millimeter reichen. Zudem ist (bei hohen Vergrößerungen) eine Lateralauflösung <=10 µm gefordert. Die technische Realisierung kann sowohl durch Rastern des Röntgenstrahls, Verfahren der Stage oder elektronenoptische Abbildungen der Analysator-Eintrittsblende erfolgen. Zudem sollen chemische Bindungszustände auch in der Bildgebung unterschieden werden können. Die Bildgebung muss zwingend auf isolierenden, magnetisierbaren, magnetischen Proben ohne entscheidende Verluste an Sensitivität, energetischer und räumlicher Auflösung möglich sein. Falls eine magnetische Immersionslinse unter der Probenebene genutzt wird muss der Anbieter nachweisen, dass auch stark magnetische Proben ohne Qualitätseinbußen charakterisiert werden können. M2 - Simultane Ladungsneutralisierung mit niederenergetischen Elektronen und Ar-Ionen. Das System muss über eine Ladungskompensation verfügen, die aus einer einzigen koaxialen Quelle oder aus zwei steuerungstechnisch gekoppelten Quellen simultan oder alternierend mit geeigneten Schaltzeiten niederenergetische Elektronen und Ar-Ionen emittiert, um so eine automatische, quasi-stationäre Neutralisierung durchzuführen und damit auch auf lokal isolierenden Probenbereichen nur einen verschwindenden, aufladungsbedingten Energie-Shift realisiert. M3 - Schaltbare Ionenquelle: Cluster-Modus (GCIB) und Atom-Modus (monoatomar) aus einer Quelle mit Massenselektion. Das System muss eine Ionenquelle aufweisen, die zwischen einem Cluster-Ionenmodus (Gas Cluster Ion Beam, GCIB, Clustergröße variabel bis <= 2000 Ar-Atome/Cluster) und einem monoatomaren Ar-Modus umschalten kann, oder über zwei separat schaltbare Quellen verfügen. Die Massenauswahl muss durch einen Massen-Selektor sei es magnetisches Sektorfeld oder Wien-Filter erfolgen, der eine definierte Clustergrößenauswahl ermöglicht. Ein rein elektrostatisches Quadrupol-System käme bei dieser Clustergröße schon in den Grenzbereich. M4 - Integrierte optische Probenbeobachtung ohne Beeinträchtigung des Analysestrahlengangs. Das System muss eine koaxiale optische Probenbeobachtung ermöglichen, bei der der Beobachtungsstrahlengang koaxial mit dem Analysator-Eintritt ausgerichtet ist und der Analysator-Eingang durch einen perforierten Spiegel (Lochspiegel, 45°-Anordnung) freigehalten wird. M5 - Integrierte schnelle Tiefenprofilierung mit vernachlässigbarem Einfluss auf die chemische Struktur. Für die am Institut untersuchten Materialsysteme, darunter funktionale Oxidschichten, Batterieelektrodenmaterialien, Triboschichten verschleißbehafteter Bauteile sowie empfindliche Grenzflächen und dünne Schichten, ist es zwingend erforderlich, ein Abtragverfahren einzusetzen, das den Energieeintrag in die Probe auf ein Minimum reduziert und insbesondere keine relevanten thermischen oder impulsinduzierten Veränderungen verursacht. Oberflächen-Stöchiometrie, -Bindungszustände und Chemie sollen möglichst schonend auch über extreme Tiefenbereiche bis zu <100µm verfolgt werden können. Effekt durch Aufrauhung sollen möglichst vermieden werden. Vor diesem Hintergrund besteht die funktionale Mindestanforderung, dass das einzusetzende Tiefenprofilierungsverfahren weitgehend frei von thermischen Effekten sowie von stoßkaskadeninduzierten Impulseinträgen ist. Ausschließlich eine in das XPS-Vakuumsystem integrierte fs-Laserablation ist geeignet, die bestehenden methodischen Limitierungen konventioneller Sputterverfahren zu überwinden und gleichzeitig die erforderliche analytische Integrität der Proben sicherzustellen. Ex-situ-Ansätze scheiden aufgrund unvermeidbarer Reoxidations-, Kontaminations-, Positions- und Korrelationsprobleme als gleichwertige Alternative aus. Darüber hinaus ist die fs-Laserablation nach dem derzeitigen Stand der Technik die einzige praktikable Methode, um Tiefenprofile bis in den Bereich von 10 µm bis hin zu >= 100 µm unter Erhalt von Stöchiometrie und chemischen Bindungszuständen in vertretbaren Messzeiten zu realisieren. Konventionelle Ionensputterverfahren sind in diesem Tiefenbereich sowohl aus zeitlichen als auch aus physikalisch-methodischen Gründen nicht sinnvoll einsetzbar. Die in-situ fs-Laserablation stellt damit eine zwingende funktionale Voraussetzung dar, um valide Tiefenprofile auch bei komplexen, reaktiven und/oder dickschichtigen Materialsystemen zu ermöglichen und zentrale wissenschaftliche sowie auftragsbezogene Fragestellungen des Instituts überhaupt bearbeiten zu können. Das System muss daher zwingend eine Femtosekunden-(fs)-Laserablations-Einheit aufweisen, die folgende funktionalen Parameter erfüllt: -Pulsdauer: Femtosekundenbereich (< 1 ps) -Integration: Im selben Vakuumsystem wie XPS-Analysator -Zyklussteuerung: Automatisch: Ablation => XPS-Analyse => Wiederholung -Parametersteuerung: Automatische Anpassung von Pulsdauer, Energie, Repetitionsrate, Wellenlänge, Spotgröße durch Controller - Strahlprofil: Definiertes Top-Hat-Profil oder Gaus-artig, schaltbar -Polarisationssteuerung: Variable Polarisation (linear, zirkulär, elliptisch) oder Polarisationsrotation -Tiefenreichweite: > 50 µm (übersteigt Kapazität konventioneller Ionensputterprofilierung)Spektrometer XPS 2026
Institut für Oberflächen-und Schichttechnik GmbHKaiserslauternDie nachfolgend aufgeführten Funktionen stellen zwingende Mindestanforderungen für die Beschaffung dar. M1 - Bildgebende hochortsauflösende Röntgenphotoelektronenspektroskopie (XPS) als Kerntechnologie (µ-XPS). Das System muss Röntgenphotoelektronenspektroskopie (XPS) mit monochromatischer Al K(alpha)-Strahlung durchführen können. Die Energieauflösung muss <= 0,5 eV (FWHM Ag 3d5/2), auch auf isolierenden Proben betragen. Die laterale Auflösung muss <= 10 µm (Spotgröße) erreichen. Auch gefordert ist eine Bild-gebende XPS Analytik, bei der voll quantifizierbare Element-Konzentrations-Verteilungen aufgenommen werden können. Die möglichen Bildbereiche sollen dabei von ca. 100 Mikrometer Durchmesser bis in den Bereich mehrerer Millimeter reichen. Zudem ist (bei hohen Vergrößerungen) eine Lateralauflösung <=10 µm gefordert. Die technische Realisierung kann sowohl durch Rastern des Röntgenstrahls, Verfahren der Stage oder elektronenoptische Abbildungen der Analysator-Eintrittsblende erfolgen. Zudem sollen chemische Bindungszustände auch in der Bildgebung unterschieden werden können. Die Bildgebung muss zwingend auf isolierenden, magnetisierbaren, magnetischen Proben ohne entscheidende Verluste an Sensitivität, energetischer und räumlicher Auflösung möglich sein. Falls eine magnetische Immersionslinse unter der Probenebene genutzt wird muss der Anbieter nachweisen, dass auch stark magnetische Proben ohne Qualitätseinbußen charakterisiert werden können. M2 - Simultane Ladungsneutralisierung mit niederenergetischen Elektronen und Ar-Ionen. Das System muss über eine Ladungskompensation verfügen, die aus einer einzigen koaxialen Quelle oder aus zwei steuerungstechnisch gekoppelten Quellen simultan oder alternierend mit geeigneten Schaltzeiten niederenergetische Elektronen und Ar-Ionen emittiert, um so eine automatische, quasi-stationäre Neutralisierung durchzuführen und damit auch auf lokal isolierenden Probenbereichen nur einen verschwindenden, aufladungsbedingten Energie-Shift realisiert. M3 - Schaltbare Ionenquelle: Cluster-Modus (GCIB) und Atom-Modus (monoatomar) aus einer Quelle mit Massenselektion. Das System muss eine Ionenquelle aufweisen, die zwischen einem Cluster-Ionenmodus (Gas Cluster Ion Beam, GCIB, Clustergröße variabel bis <= 2000 Ar-Atome/Cluster) und einem monoatomaren Ar-Modus umschalten kann, oder über zwei separat schaltbare Quellen verfügen. Die Massenauswahl muss durch einen Massen-Selektor sei es magnetisches Sektorfeld oder Wien-Filter erfolgen, der eine definierte Clustergrößenauswahl ermöglicht. Ein rein elektrostatisches Quadrupol-System käme bei dieser Clustergröße schon in den Grenzbereich. M4 - Integrierte optische Probenbeobachtung ohne Beeinträchtigung des Analysestrahlengangs. Das System muss eine koaxiale optische Probenbeobachtung ermöglichen, bei der der Beobachtungsstrahlengang koaxial mit dem Analysator-Eintritt ausgerichtet ist und der Analysator-Eingang durch einen perforierten Spiegel (Lochspiegel, 45°-Anordnung) freigehalten wird. M5 - Integrierte schnelle Tiefenprofilierung mit vernachlässigbarem Einfluss auf die chemische Struktur. Für die am Institut untersuchten Materialsysteme, darunter funktionale Oxidschichten, Batterieelektrodenmaterialien, Triboschichten verschleißbehafteter Bauteile sowie empfindliche Grenzflächen und dünne Schichten, ist es zwingend erforderlich, ein Abtragverfahren einzusetzen, das den Energieeintrag in die Probe auf ein Minimum reduziert und insbesondere keine relevanten thermischen oder impulsinduzierten Veränderungen verursacht. Oberflächen-Stöchiometrie, -Bindungszustände und Chemie sollen möglichst schonend auch über extreme Tiefenbereiche bis zu <100µm verfolgt werden können. Effekt durch Aufrauhung sollen möglichst vermieden werden. Vor diesem Hintergrund besteht die funktionale Mindestanforderung, dass das einzusetzende Tiefenprofilierungsverfahren weitgehend frei von thermischen Effekten sowie von stoßkaskadeninduzierten Impulseinträgen ist. Ausschließlich eine in das XPS-Vakuumsystem integrierte fs-Laserablation ist geeignet, die bestehenden methodischen Limitierungen konventioneller Sputterverfahren zu überwinden und gleichzeitig die erforderliche analytische Integrität der Proben sicherzustellen. Ex-situ-Ansätze scheiden aufgrund unvermeidbarer Reoxidations-, Kontaminations-, Positions- und Korrelationsprobleme als gleichwertige Alternative aus. Darüber hinaus ist die fs-Laserablation nach dem derzeitigen Stand der Technik die einzige praktikable Methode, um Tiefenprofile bis in den Bereich von 10 µm bis hin zu >= 100 µm unter Erhalt von Stöchiometrie und chemischen Bindungszuständen in vertretbaren Messzeiten zu realisieren. Konventionelle Ionensputterverfahren sind in diesem Tiefenbereich sowohl aus zeitlichen als auch aus physikalisch-methodischen Gründen nicht sinnvoll einsetzbar. Die in-situ fs-Laserablation stellt damit eine zwingende funktionale Voraussetzung dar, um valide Tiefenprofile auch bei komplexen, reaktiven und/oder dickschichtigen Materialsystemen zu ermöglichen und zentrale wissenschaftliche sowie auftragsbezogene Fragestellungen des Instituts überhaupt bearbeiten zu können. Das System muss daher zwingend eine Femtosekunden-(fs)-Laserablations-Einheit aufweisen, die folgende funktionalen Parameter erfüllt: -Pulsdauer: Femtosekundenbereich (< 1 ps) -Integration: Im selben Vakuumsystem wie XPS-Analysator -Zyklussteuerung: Automatisch: Ablation => XPS-Analyse => Wiederholung -Parametersteuerung: Automatische Anpassung von Pulsdauer, Energie, Repetitionsrate, Wellenlänge, Spotgröße durch Controller - Strahlprofil: Definiertes Top-Hat-Profil oder Gaus-artig, schaltbar -Polarisationssteuerung: Variable Polarisation (linear, zirkulär, elliptisch) oder Polarisationsrotation -Tiefenreichweite: > 50 µm (übersteigt Kapazität konventioneller Ionensputterprofilierung)Spektrometer XPS 2026
Institut für Oberflächen-und Schichttechnik GmbHKaiserslauternDie nachfolgend aufgeführten Funktionen stellen zwingende Mindestanforderungen für die Beschaffung dar. M1 - Bildgebende hochortsauflösende Röntgenphotoelektronenspektroskopie (XPS) als Kerntechnologie (µ-XPS). Das System muss Röntgenphotoelektronenspektroskopie (XPS) mit monochromatischer Al K(alpha)-Strahlung durchführen können. Die Energieauflösung muss <= 0,5 eV (FWHM Ag 3d5/2), auch auf isolierenden Proben betragen. Die laterale Auflösung muss <= 10 µm (Spotgröße) erreichen. Auch gefordert ist eine Bild-gebende XPS Analytik, bei der voll quantifizierbare Element-Konzentrations-Verteilungen aufgenommen werden können. Die möglichen Bildbereiche sollen dabei von ca. 100 Mikrometer Durchmesser bis in den Bereich mehrerer Millimeter reichen. Zudem ist (bei hohen Vergrößerungen) eine Lateralauflösung <=10 µm gefordert. Die technische Realisierung kann sowohl durch Rastern des Röntgenstrahls, Verfahren der Stage oder elektronenoptische Abbildungen der Analysator-Eintrittsblende erfolgen. Zudem sollen chemische Bindungszustände auch in der Bildgebung unterschieden werden können. Die Bildgebung muss zwingend auf isolierenden, magnetisierbaren, magnetischen Proben ohne entscheidende Verluste an Sensitivität, energetischer und räumlicher Auflösung möglich sein. Falls eine magnetische Immersionslinse unter der Probenebene genutzt wird muss der Anbieter nachweisen, dass auch stark magnetische Proben ohne Qualitätseinbußen charakterisiert werden können. M2 - Simultane Ladungsneutralisierung mit niederenergetischen Elektronen und Ar-Ionen. Das System muss über eine Ladungskompensation verfügen, die aus einer einzigen koaxialen Quelle oder aus zwei steuerungstechnisch gekoppelten Quellen simultan oder alternierend mit geeigneten Schaltzeiten niederenergetische Elektronen und Ar-Ionen emittiert, um so eine automatische, quasi-stationäre Neutralisierung durchzuführen und damit auch auf lokal isolierenden Probenbereichen nur einen verschwindenden, aufladungsbedingten Energie-Shift realisiert. M3 - Schaltbare Ionenquelle: Cluster-Modus (GCIB) und Atom-Modus (monoatomar) aus einer Quelle mit Massenselektion. Das System muss eine Ionenquelle aufweisen, die zwischen einem Cluster-Ionenmodus (Gas Cluster Ion Beam, GCIB, Clustergröße variabel bis <= 2000 Ar-Atome/Cluster) und einem monoatomaren Ar-Modus umschalten kann, oder über zwei separat schaltbare Quellen verfügen. Die Massenauswahl muss durch einen Massen-Selektor sei es magnetisches Sektorfeld oder Wien-Filter erfolgen, der eine definierte Clustergrößenauswahl ermöglicht. Ein rein elektrostatisches Quadrupol-System käme bei dieser Clustergröße schon in den Grenzbereich. M4 - Integrierte optische Probenbeobachtung ohne Beeinträchtigung des Analysestrahlengangs. Das System muss eine koaxiale optische Probenbeobachtung ermöglichen, bei der der Beobachtungsstrahlengang koaxial mit dem Analysator-Eintritt ausgerichtet ist und der Analysator-Eingang durch einen perforierten Spiegel (Lochspiegel, 45°-Anordnung) freigehalten wird. M5 - Integrierte schnelle Tiefenprofilierung mit vernachlässigbarem Einfluss auf die chemische Struktur. Für die am Institut untersuchten Materialsysteme, darunter funktionale Oxidschichten, Batterieelektrodenmaterialien, Triboschichten verschleißbehafteter Bauteile sowie empfindliche Grenzflächen und dünne Schichten, ist es zwingend erforderlich, ein Abtragverfahren einzusetzen, das den Energieeintrag in die Probe auf ein Minimum reduziert und insbesondere keine relevanten thermischen oder impulsinduzierten Veränderungen verursacht. Oberflächen-Stöchiometrie, -Bindungszustände und Chemie sollen möglichst schonend auch über extreme Tiefenbereiche bis zu <100µm verfolgt werden können. Effekt durch Aufrauhung sollen möglichst vermieden werden. Vor diesem Hintergrund besteht die funktionale Mindestanforderung, dass das einzusetzende Tiefenprofilierungsverfahren weitgehend frei von thermischen Effekten sowie von stoßkaskadeninduzierten Impulseinträgen ist. Ausschließlich eine in das XPS-Vakuumsystem integrierte fs-Laserablation ist geeignet, die bestehenden methodischen Limitierungen konventioneller Sputterverfahren zu überwinden und gleichzeitig die erforderliche analytische Integrität der Proben sicherzustellen. Ex-situ-Ansätze scheiden aufgrund unvermeidbarer Reoxidations-, Kontaminations-, Positions- und Korrelationsprobleme als gleichwertige Alternative aus. Darüber hinaus ist die fs-Laserablation nach dem derzeitigen Stand der Technik die einzige praktikable Methode, um Tiefenprofile bis in den Bereich von 10 µm bis hin zu >= 100 µm unter Erhalt von Stöchiometrie und chemischen Bindungszuständen in vertretbaren Messzeiten zu realisieren. Konventionelle Ionensputterverfahren sind in diesem Tiefenbereich sowohl aus zeitlichen als auch aus physikalisch-methodischen Gründen nicht sinnvoll einsetzbar. Die in-situ fs-Laserablation stellt damit eine zwingende funktionale Voraussetzung dar, um valide Tiefenprofile auch bei komplexen, reaktiven und/oder dickschichtigen Materialsystemen zu ermöglichen und zentrale wissenschaftliche sowie auftragsbezogene Fragestellungen des Instituts überhaupt bearbeiten zu können. Das System muss daher zwingend eine Femtosekunden-(fs)-Laserablations-Einheit aufweisen, die folgende funktionalen Parameter erfüllt: -Pulsdauer: Femtosekundenbereich (< 1 ps) -Integration: Im selben Vakuumsystem wie XPS-Analysator -Zyklussteuerung: Automatisch: Ablation => XPS-Analyse => Wiederholung -Parametersteuerung: Automatische Anpassung von Pulsdauer, Energie, Repetitionsrate, Wellenlänge, Spotgröße durch Controller - Strahlprofil: Definiertes Top-Hat-Profil oder Gaus-artig, schaltbar -Polarisationssteuerung: Variable Polarisation (linear, zirkulär, elliptisch) oder Polarisationsrotation -Tiefenreichweite: > 50 µm (übersteigt Kapazität konventioneller Ionensputterprofilierung)Einführung eines HR-Systems im Landratsamt Erzgebirgskreis, Referat Personal und Organisation
Landratsamt Erzgebirgskreis Abteilung 2, Referat 23000 Liegenschaften und Zentrale Dienste SG Zentraler Service - ZENTRALE VERGABESTELLEAnnaberg-BuchholzLos 1 - Payroll Im Rahmen eines Projekts zur Digitalisierung der Personalvorgänge wird durch das Landratsamt Erzgebirgskreis die Einführung eines zentralen, cloudbasierten HR-Systems für die Verwaltung ausgeschrieben. Zum aktuellen Zeitpunkt werden verschiedene Fachanwendungen mit einzelnen (manuell erstellten) Datenbanken und Schnittstellen verwendet, welche einen hohen manuellen Pflegeaufwand im Sachgebiet Personal sowie in den Querschnittsreferaten des Landratsamt Erzgebirgskreis verursachen. Der Auftraggeber schreibt die Bereitstellung sowie die Einräumung zeitlich begrenzter Nutzungsrechte an Lizenzen eines cloudbasierten HR-Systems (Personalmanagementsystem) aus, inklusive Implementierungs-, Migrations-, Betriebs-, Support-, Anpassungs- und Schulungsdienstleistungen. Die Leistung soll als SaaS (Software-as-a-Service) für einen Zeitraum von vier Jahren angeboten werden. Es besteht die Option, den Vertrag im Anschluss gem. EVB-IT-Vertrag zu verlängern. Ziel des Projektes ist es, bestehende Insellösungen aus Fachanwendungen (PAISY des Anbieters ADP, KOMMBOSS/KSC des Anbieters GfOP, MATRIX des Anbieters Dormakaba) sowie Eigenlösungen abzulösen, welche durch papierbasierte Verfahren verbunden sind. Diese sollen durch eine effiziente, datenschutzkonforme Plattform ersetzt werden und somit den Digitalisierungsgrad sämtlicher HR-Prozesse nachhaltig erhöhen. Durch die Einführung des HR-Systems sollen Effizienz, Datenqualität, Transparenz und Nachvollziehbarkeit der Personalabläufe verbessert und ein zukunftsfähiges digitales Personalmanagement im Landratsamt Erzgebirgskreis etabliert werden. Immer wiederkehrende Routineaufgaben, die derzeit umfangreiche manuelle Eingaben der Beschäftigten erfordern, sollen durch Automatisierung effektiver und effizienter erledigt werden. Die HR-Software soll zur digitalen Bewirtschaftung von circa 1.950 Personalfällen im öffentlichen Dienst (tarifliche Beschäftigte und Beamte) eingesetzt werden und eine moderne Mitarbeiterkommunikation über einen integrierten Employee-Self-Service sowie einen Manager-Self-Service ermöglichen. Es soll ein Self-Service-Bereich für alle Mitarbeiter etabliert werden, um personalwirtschaftliche Abläufe wie die Beantragung von Adressänderungen, die Einreichung von Anträgen, Reisekosten u. Ä. zu dezentralisieren, Abläufe zu beschleunigen und transparenter zu gestalten. Das geplante HR-System soll sämtliche personalwirtschaftliche Kernabläufe digital abbilden, darunter insbesondere die Personalstammdatenpflege, die Zeitwirtschaft, die Reisekostenabrechnung, die Personalkosten(hoch)rechnung, statistische Auswertungen sowie die Schnittstellenanbindung zu weiteren Fachverfahren. Es muss Standardauswertungen enthalten und darüber hinaus die Möglichkeit bieten, individuelle Berichte zu erstellen. Zudem sollen die Organisation von Terminen und die Überwachung von variablen Änderungsdaten mit individuellen Wiedervorlagefunktionen in Form von Checklisten möglich sein. Es wird derzeit die Beschaffung von max. zwei spezialisierten HR-Lösungen beabsichtigt, zum einen für die Entgelt- und Bezügeabrechnung (Payroll, Los 1) und zum anderen für das Personalmanagement (Los 2). Die Payroll (Entgelt- und Bezügeabrechnung) soll vollständig oder teilweise in das HR-System integriert bzw. als ein ausgelagertes Payroll-System an das HR-System angebunden werden. Es ist erforderlich, dass dem Personalmanagementsystem als weitere Komponente ein Zeitwirtschaftsmodul umfasst. Um eine Kompatibilität zwischen dem Modul Zeiterfassung und den Zeiterfassungsterminals zu garantieren, erfolgt eine an das Modul Zeiterfassung gebundene Ausschreibung von neuen Zeiterfassungsterminals durch das Los 3. Diese Ausschreibung erfolgt zu einem späteren Zeitpunkt. Bei unterschiedlichen Systemen sollen bereits vom Anbieter programmierte und erprobte Schnittstellen zu einer abgestimmten und zusammenwirkenden Softwarelandschaft führen. Zudem sollen die HR-Software modular aufgebaut sein und um verschiedene Module wie Reisekostenabrechnung, Personalentwicklung, Stellenplan usw. zeitlich gestaffelt implementiert zu können. Die neue Entgelt- und Bezügeabrechnung für tariflich Beschäftigte und Beamte soll das derzeit eingesetzte System PAISY des Anbieters ADP zum 01.01.2027 ersetzen. Die neue Personalmanagementsoftware soll die bestehenden Systeme zum 01.01.2028 vollständig ablösen. Im Rahmen einer Projektbetreuung durch den Bieter wird ein Projektplan bzgl. der Implementierung in Absprache mit dem Landratsamt Erzgebirgskreis erstellt und umgesetzt. Dabei ist die außer Betrieb Stellung der Altanwendungen KOMMBOSS/KSC der GfoP, MATRIX von Dormakaba sowie der Eigenlösungen zu berücksichtigen. Die Daten der bestehenden Softwaresysteme sind durch den Auftragnehmer vollständig in das neue System zu migrieren. Zudem ist eine Schnittstelle zum im Haus eingesetzten System SASKIA.H2R bereitzustellen. Idealer Weise sollen dabei gemäß dem „Once-Only-Prinzip“ alle erforderlichen Daten der Beschäftigten nur an einer zentralen Stelle, also einer gemeinsamen Datenbank, gepflegt werden. Alternativ sollen bei getrennten Datenbanken die erforderlichen Daten über einen Echtzeit-Datenabgleich oder wenn dies nicht möglich, über zeitnahen, regelmäßigen, automatisierten Datenaustausch per Schnittstelle eine wechselseitige, einheitliche Datenbearbeitung zwischen den gekoppelten Systemen ohne divergierende Dateninhalte ermöglichen. Gleichzeitig ist der Umstieg von der Papier- zur digitalen Personalakte geplant. Aus dem HR-System sollen Dokumente und Serienbriefe erstellt werden können, welche durch Platzhalterfunktionen mit variablen Daten automatisch befüllt und in der im Haus genutzten E-Akte (Dokumentenmanagementsystem VIS) abgelegt werden. Eine detaillierte Übersicht zu den Muss- und Kann-Kriterien sind in der Leistungsbeschreibung enthalten.
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