WIRO Wohnen in Rostock Wohnungsgesellschaft mbHRostock
Miete und Inspektion von Rauchwarnmeldern - WIRO Wohnen in Rostock WohnungsgesellschaftmbH - WT
Demontage vorhandener RWM und Montage sowie Inbetriebnahme neuer RWM-Typ C der in seinem Eigentum stehenden Verwaltungseinheiten und Treppenhäuser und deren Betrieb einschließlich Instandhaltung und das Betreiben einer Notrufzentrale sowie eines digitalen Buchungsportals.
Type: Tender
Hazard Detection Systems
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- Tender type:
- Tender
- Contracting authority:
- WIRO Wohnen in Rostock Wohnungsgesellschaft mbH
- Published:
- July 20, 2026
- Deadline:
- Not specified
- Topic:
- Hazard Detection Systems
Tender description
Demontage vorhandener RWM und Montage sowie Inbetriebnahme neuer RWM-Typ C der in seinem Eigentum stehenden Verwaltungseinheiten und Treppenhäuser und deren Betrieb einschließlich Instandhaltung und das Betreiben einer Notrufzentrale sowie eines digitalen Buchungsportals.
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Stadtentwässerung Dresden GmbHDresdenDeadline: Aug 13Die SEDD betreibt auf Baufeld B zurzeit ein Blockheizkraftwerk (BHKW) aus drei Modulen (A, B und C) zur Eigenstromversorgung sowie energetischen Verwertung des in der Schlammfaulung anfallenden Klärgases. Die BHKW-Module A und B sind seit Dezember 2011 in Betrieb und liefern zusammen mit dem 2014 ergänzten BHKW-Modul C einen erheblichen Teil der benötigte Elektroenergie der Kläranlage. Die BHKW-Module unterliegen einem vorgeschriebenen Wartungszyklus. Im Rahmen einer Variantenuntersuchung wurde entschieden, dass ein neues BHKW-Modul (D) gebaut wird und nach Inbetriebnahme dessen ein Ersatzneubau für Modul B erfolgt. Dies ist Gegenstand der vorliegenden Ausschreibung. Die Baumaßnahme wird in vier Losen ausgeschrieben. Das vorliegende Los 4: EMSR umfasst die Lieferung und Montage von elektrotechnischer Ausrüstung zum Neubau eines BHKW-Modul D und zum Ersatzneubau eines vorhandenen Modul B, im Wesentlichen bestehend aus - Einbau eines Mittelspannungsleistungsschalters in ein vorhandenes Schaltfeld - Einbau von 5 Schutzrelais in die vorhandene Mittelspannungsanlage - Montage von 2 Gießharztransformatoren (1600 kVA) BHKW B und BHKW D - Austausch der Energiekabel vom Trafo zum Generator - Beleuchtung und Steckdosen einschließlich Verteilung im BHKW D - Potentialausgleich und Blitzschutz BHKW D - 2 Klimageräte für BHKW B und BHKW D - Demontage und Entsorgung von 1 Gießharztransformator - Demontage und Entsorgung von 4 Schutzrelais - Demontage und Entsorgung von KabelLieferung, Inbetriebnahme und Einweisung für einen Autosampler für Flüssig- und Headspaceproben für einen Trace 1310 Gaschromatographen mit FID-Detektor
Leibniz Universität HannoverHannoverDeadline: Aug 14Für ein Digitalisierungsprojekt wird die Beschaffung eines robotischen Autosamplers für einen vorhandenen Gaschromatographen mit Flammenionisationsdetektor (Thermo Scientific Trace 1310, GC-FID) angestrebt. Ziel ist die automatisierte Aufgabe von Flüssig- und Headspaceproben zur Analyse von volatilen organischen Substanzen (kurz VOCs), Additiven und Restmonomeren aus Kunststoffen und Rezyklaten. Position 1.0: Autosampler Roboter - Robotischer Autosampler für die Flüssig- und Headspaceinjektion zur Montage auf dem vorhandenen GC 1310. - Trayhalter für Vials: o Mindestens 100 Plätze für 2-mL-Vials. o Mindestens 50 Plätze für 10- oder 20-mL-Vials. Position 1.1: Autosampler-Erweiterung für Flüssiginjektion - Mögliche Spritzengrößen von 1 bis 100 µL. - Waschstation mit Vialhalter für die Reinigung der Spritzen. - Mindestens 2 x Spritzen für Flüssiginjektion: o Mind. einmal davon 10 µL. Position 1.2: Autosampler-Erweiterung für Headspace-Injektion - Einrichtung zur Temperierung von Vials im Bereich von 30 bis 120 °C. - Mindestens 2 x Spritzen für Headspace-Injektion: o Mind. einmal davon 2,5 mL. - Passender Inletadapter für Split/Splitless- bzw. PTV-Injektoren. Position 1.3: Optionale automatische Werkzeugwechselstation - Wünschenswert ist eine vollautomatische Werkzeugwechselstation (Tool-Change-Station) zur Aufnahme von mindestens 2 Werkzeugen. - Der Wechsel zwischen Flüssig- und Headspace-Tool soll dabei vollautomatisch innerhalb einer Messsequenz erfolgen. Position 2: Injektor & Anbindung an den vorhandenen GC sowie Software zur Steuerung - Befestigungskit inklusive Injektor-Adapterkit für den vorhandenen GC (Thermo Scientific Trace 1310). - Sofern für den Betrieb erforderlich, ist ein geeigneter Injektor anzubieten. - Software für die Steuerung und Bedienung des Autosamplers. Position 3: Inbetriebnahme und Schulung - Aufbau, Installation und Inbetriebnahme am vorhandenen GC vor Ort (mindestens 1 Arbeitstag). - Einweisung des Laborpersonals bei der Inbetriebnahme vor Ort. - Eine Schulung kann auch über eine Dokumentation erfolgen. Position 4: Dokumentation - 1x in gedruckter Form. - 1x in digitaler Form mittels USB-Stick. Zusätzliche Anforderungen - Lieferung: o Alle Fracht- und Lieferkosten müssen im Angebot enthalten sein. o Lieferung bis spätestens Ende 4. Quartal 2026 - Gewährleistung/Garantie Es sollen die üblichen zweijährigen Gewährleistungspflichten aus dem Verbraucherrecht auch hier Anwendung finden. - Preisstellung Preisangaben sind bitte Brutto anzugeben (inkl. MwSt.). Leistungsort Die Leistungs- und Rechnungsadresse erfolgt an die Gottfried Wilhelm Leibniz Universität Hannover Institut für Kunststoff- und Kreislauftechnik (IKK) Fakultät für Maschinenbau An der Universität 2 30823 Garbsen Kontaktstellen Eine Kommunikation darf nur elektronisch über die Vergabeplattform "www.dtvp.de" erfolgen. Allgemeine Angebots- und Auftragsbedingungen Es gelten die allgemeinen Einkaufsbedingungen der Gottfried Wilhelm Leibniz Universität Hannover. Sprache Der Bieter hat sein Angebot inklusive sämtlicher Anlagen und Nachweise in deutscher Sprache zu erstellen. Der Schriftverkehr mit dem Auftraggeber ist in deutscher Sprache zu führen. Die Vertrags- und Verhandlungssprache ist deutsch. Gerichtsstand Gerichtsstand ist Hannover. Zahlungsbedingungen Sollten Anzahlungen gewünscht werden, so sind diese nur gegen Vorlage einer unbefristet für den Auftraggeber kostenlosen Bankbürgschaft möglich. Bewertung: Bei der Ermittlung des wirtschaftlich günstigsten Angebots werden nachstehende Kriterien angewendet. Für jedes Bewertungskriterium können 0 bis 10 Punkte vergeben werden, die mit dem angegebenen Gewichtungsfaktor in die Endpunktzahl eingehen. Liefertermin (Gewichtung: 10 %) Berücksichtigt werden nur Angebote, deren Liefertermin vor dem Ende des 4. Quartal 2026 liegt. Preis (Gewichtung: 30 %) Bitte beachten Sie den vorgegebenen Höchstpreis von 60.000 EUR brutto für das Gesamtsystem inklusive aller Nebenkosten. Alle Preise sind in Euro anzugeben. Als maßgeblich wird der Gesamtpreis des Angebots, einschließlich aller Transport-, Ausstattungs-, Supportoptionen sowie der Gewährleistung gesehen. Laufende Kosten beispielsweise aus Dienstleistungen zu Supportoptionen oder der Gewährleistung sind unzulässig bzw. sind im Zusammenhang mit dem Lieferauftrag im Vorhinein zu kontingentieren. Das preisgünstigste Angebot erhält die volle Punktzahl. Ein Angebot, dessen Gesamtpreis doppelt so hoch wie der niedrigste Angebotspreis ist, erhält keine Punkte. Angebote, deren Preis zwischen dem niedrigsten Angebotspreis und dem doppelten niedrigsten Angebotspreis liegen, erhalten eine linear berechnete Punktzahl. Funktionsumfang (Gewichtung: 60 %) In die Bewertung fließen die in der Leistungsbeschreibung aufgeführten Kriterien ein. Die Angebote werden in Relation betrachtet, wobei das Angebot mit der optimalen Lösung volle Punktzahl erhält, die davon abweichenden eine linear berechnete und dementsprechend geringere Punktzahl.Kauf einer DRIE/ RIE-Anlage (Plasmaätzanlage)
Westsächsische Hochschule ZwickauZwickauDeadline: Jul 10Kurze Beschreibung: Anschaffung einer neuen DRIE/ RIE-Anlage (Plasmaätzanlage) - mit Software- und Anlagensteuerung inklusive Installation und Einweisung Bestehend aus: DRIE/ RIE-Anlage, Substratelektrode, Kantenschutz der Wafer während der Ätzung, Notching-Kontrolle/ Reduktion der Strukturabweichung beim Ätzstopp auf Dielektrika, Endpunktdetektion, Software- und Anlagensteuerung, Verpackung / Transport / Abladen / Einbringen / Installation einschließlich Inbetriebnahme und Schulung Beschreibung der Beschaffung (Art und Umfang der Dienstleistung bzw. Angabe der Bedürfnisse und Anforderungen) Neue DRIE/ RIE-Anlage inkl. Zubehör für die Forschung an der WHZ mit folgenden Anforderungen: 01 1 RIE / DRIE-Anlage Plasmaätzanlage für plasmachemisches, reaktives Silizium-Tiefenätzen (?500µm) mittels des Bosch-Prozesses (gas chopping process) und RIE von dünnen Dielektrika- Schichten (?2µm). - Die Anlage muss die Verarbeitung von 100mm Wafern mit und ohne Primary-Flat, sowie mit und ohne Secondary-Flat erlauben. - Die Anlage muss die Verarbeitung von 150mm Wafern mit und ohne Primary-Flat, mit und ohne Secondary-Flat oder auch mit und ohne Notch erlauben. - Das im DRIE-Modus mögliche Siliziumabtragsvolumen pro Zeiteinheit liegt bei bis zu ca. 2,5 mm3/s, das Wärmemanagement ist entsprechend auszulegen. Die exakten zu erfüllenden Prozessparameter sind der Spezifikationstabelle im Punkt "Geforderte Prozessprameter und deren Überprüfbarkeit" zu entnehmen. - Die Anlage muss über eine separate Beschickungskammer (Vakuumschleuse, Loadlock) verfügen, die es zulässt die spezifizierten Wafer, ohne ein Belüften der Prozesskammer gegen Atmosphäre zu laden. - Der Probenchuck / Substratelektrode muss über eine He-Rückseitenkühlung für die Substrate verfügen. Es muss zudem eine Vorrichtung zur Detektion von He-Lecks in Richtung Prozesskammer beim Ätzprozess, z.B. durch Waferbruch, vorhanden sein. - Via Mass-Flow-Controller geregelte Gaslinien für folgende Prozessgase müssen vorhanden sein: o C4F8 o SF6 o O2 o CHF3 o Ar o CF4 - Um parasitäre Abscheidung, z.B. von Fluorpolymeren, zu vermeiden muss das System über einen aktiv geheizten Prozesskammer-Liner (?120 °C) verfügen. - Alle zum RIE- und DRIE-Betrieb nötigen Anlagenbestandteile müssen Lieferbestandteil der Anlage sein, hierzu zählen beispielsweise, aber nicht abschließend: o Prozesskammer o Gestell / Korpus inkl. nötige Racks und Steuerschränke o Anlagen-Steuerung inkl. Eingabegeräte und Monitore o Plasmaanregung / ICP Quelle mit automatisierter Matching-Unit oder Generatoren mit integrierter HF-Abstimmung o Druckmessung o Pumpsystem - Die Anlage muss für den Einbau in einem ISO 14644-1, Klasse ISO 5 Reinraum geeignet sein, Pumpsysteme können in einem Servicebereich untergebracht werden. - Die maximalen Abmessungen der Anlage dürfen inkl. notwendiger Serviceflächen maximal Höhe x Breite x Länge, 2,6m x 0,9m x 2,4m betragen. - Die zu liefernde Anlage muss über eine CE-Kennzeichnung des Gesamtsystems verfügen. Dies inkludiert die Einhaltung aller für das Anlagenkonzept einschlägigen Richtlinien, mindestens jedoch: - Richtlinie 2006/42/EG bzw. bei Lieferung ab dem 20.01.2027 Verordnung (EU) 2023/1230 - Low Voltage Directive - 2006/95/EC - EMC Directive - 2004/108/EC - Das System muss ausschließlich mit den genannten Prozessgasen, gasförmigem Helium, gasförmigem Stickstoff, Druckluft, Abluft, Kühlwasser und Elektroenergie betrieben werden. Zusätzliche Medien, wie z.B. Flüssighelium, Flüssigstickstoff oder Trockeneis dürfen nicht zum Betrieb nötig sein. - Die ICP-Quelle muss in einem Bereich von 120W bis 5000W oder weiter betreibbar sein, wobei bei einem weiteren Bereich der genannte Bereich inkludiert sein muss. 02 1 Substratelektrode Zur Probenhalterung wird aus Gründen der Homogenität und mechanischen Belastung der Wafer eine elektrostatische Klemmung gefordert. e-Chuck: - Die Substratelektrode muss für die Verarbeitung aller genannten Wafergeometrien (100 und 150mm) geeignet sein oder die entsprechende Anzahl an Substratelektroden für die Bearbeitung der genannten Wafergrößen müssen Lieferbestandteil sein. o Im Falle der Notwendigkeit des Tausches von Teilen zur Umrüstung zwischen den Wafergrößen sind, insofern nötig oder vorgeschrieben, alle etwaigen Verschleißteile (Dichtstoffe...) für eine 50-fache Umrüstung im Lieferumfang zu integrieren. - Falls für das Erreichen der geforderten Parameter ein Heater / Chiller nötig ist, muss dieser inkl. der eventuell nötigen Integration und Steuerung Lieferbestandteil sein. 03 1 Kantenschutz der Wafer während der Ätzung Es ist für den Schutz der Waferränder (z.B. bei der Verwendung Photoresistmasken) eine Kantenabdeckung (edge protection) vorzusehen. - Der Kantenschutz muss für die Verarbeitung aller genannten Wafergeometrien (100 und 150mm) geeignet sein oder über die Verwendung von Carriern / Adaptern oder Bauteiltausch die Verarbeitung zulassen. - Sind Zusatzteile für die Verarbeitung aller genannten Wafergeometrien nötig, müssen alle zur Umrüstung nötigen Teile Lieferbestandteil der Anlage sein. - Sind zur Umrüstung zwischen den Wafergeometrien Verschleißteile nötig oder vorgeschrieben sind diese für eine 50-fache Umrüstung im Lieferumfang zu integrieren. - Der Kantenschutz muss nach seiner Installation im Ätzbetrieb ohne Öffnen der Prozesskammer wirksam werden. - Ist der Kantenschutz ein Verschleißteil, z.B. ein Quarzglas-Ring, sind 2 Stück je benötigter Ausführung als Lieferbestandteil zu integrieren. 04 1 Notching-Kontrolle / Reduktion der Strukturabweichung beim Ätzstopp auf Dielektrika Um das sog. Notching bei der Ätzung von silicon on insulator (SOI) Strukturen und dem Stopp auf Dielektrikamembranen zu minimieren, ist die Substratelektrode mit einem gepulsten kHz Generator zu betreiben oder ein gleichwertiges Verfahren zur Vermeidung des so genannten Notchings einzusetzen.
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