Deutsches Zentrum für Luft- und Raumfahrt e.V. (DLR) -
GV-Nr: 9334120 - Ultraschmalbandiger Spektroskopielaser
Beschaffung eines ultrastabilen spektroskopischen Lasers mit Wellenlänge 578 nm für den Ytterbium‑Ührenübergang, der in einer optischen Gitteruhr eingesetzt wird. Der Laser muss über einen ultrastabilen Resonator verfügen, da die Stabilität der Gitteruhr unmittelbar von diesem Laser abhängt.
Type: Tender
Measurement Technology, Laboratory Instruments
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Beschaffung eines ultrastabilen spektroskopischen Lasers mit Wellenlänge 578 nm für den Ytterbium‑Ührenübergang, der in einer optischen Gitteruhr eingesetzt wird. Der Laser muss über einen ultrastabilen Resonator verfügen, da die Stabilität der Gitteruhr unmittelbar von diesem Laser abhängt.
- Tender type:
- Tender
- Contracting authority:
- Deutsches Zentrum für Luft- und Raumfahrt e.V. (DLR) -
- Published:
- May 03, 2026
- Deadline:
- Not specified
- Topic:
- Measurement Technology
Tender description
Beschaffung eines ultrastabilen spektroskopischen Lasers mit Wellenlänge 578 nm für den Ytterbium‑Ührenübergang, der in einer optischen Gitteruhr eingesetzt wird. Der Laser muss über einen ultrastabilen Resonator verfügen, da die Stabilität der Gitteruhr unmittelbar von diesem Laser abhängt.
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5- Deutsches Zentrum für Luft- und Raumfahrt e.V. (DLR)Deadline: Jun 08
GV-Nr: 9334120 - Ultraschmalbandiger Spektroskopielaser
Beschaffung eines ultrastabilen, schmalbandigen Lasersystems (578 nm) als lokale Oszillatorquelle für hochauflösende Laserspektroskopie in einer optischen Gitteruhr (Ytterbium). Frequenzstabilität 10⁻¹⁵, Linienbreite Hertz-Bereich, mode-hop-freie Abstimmbarkeit über mehrere GHz. Lieferumfang: komplettes System mit Stabilisierungseinheit, Steuerungselektronik, Software und Dokumentation. Ausgelegt für Dauerbetrieb im Labor. - Deutsches Zentrum für Luft- und Raumfahrt e.V. (DLR) - Berlin
Ultraschmalbandiger Spektroskopielaser
Beschaffung eines ultrastabilen, schmalbandigen Lasersystems mit einer nominalen Ausgangswellenlänge von 578 nm zur Anwendung als lokale Oszillatorquelle für hochauflösende Laserspektroskopie in einer optischen Gitteruhr auf Basis neutraler Ytterbium-Atome. Das System muss eine sehr hohe Frequenzstabilität (im Bereich von 10⁻¹⁵), eine Linienbreite im Hertz-Bereich sowie eine kontinuierliche, mode-hop-freie Abstimmbarkeit über mehrere GHz aufweisen. Der Lieferumfang umfasst ein vollständiges, betriebsbereites Lasersystem einschließlich Stabilisierungseinheit, Steuerungselektronik, Software sowie erforderlicher Dokumentation. Das System ist für den Dauerbetrieb in einer experimentellen Laborumgebung ausgelegt und muss eine hohe Langzeitstabilität und Reproduzierbarkeit gewährleisten. Details ergeben sich aus der Leistungsbeschreibung. - Universität HamburgHamburgDeadline: Apr 30
Beschaffung und Integration eines Laser- und optisch parametrischen Verstärkersystems (OPA) für nichtlineare Spektroskopie und Starkfeld-Experimente
Beschaffung und Integration eines Laser- und optisch parametrischen Verstärkersystems (OPA) als Basisinfrastruktur für nichtlineare Spektroskopie und Starkfeld-Experimente am CFEL. Das System muss hohe Pulsenergien bei Kilohertz-Repetitionsraten, Wellenlängen-Abstimmbarkeit bis ins mittlere/lange Infrarot, mechanische Robustheit, Langzeitstabilität und softwaregesteuerte Repetitionsratenflexibilität bieten. Lieferung innerhalb von 7 Monaten erforderlich. - Humboldt-Universität zu BerlinBerlin
Markterkundung: Hochpräzises optisches Frequenzkammsystem
Vor diesem Hintergrund soll im Rahmen einer Markterkundung (mit anschließender Ausschreibung) ein potenzieller Partner gefunden werden. Gegenstand dieser Spezifikation ist die Lieferung und Installation eines hochpräzisen optischen Frequenzkammsystems. Das System dient als primäre Frequenzreferenz und zur Laserstabilisierung in der Quantenkommunikationsforschung, insbesondere zur präzisen Abstimmung auf atomare Übergänge und Defektzentren. Der Leistungsumfang umfasst: - Lieferung des vollständigen Frequenzkammsystems. - Unterstützung bei der Installation und Inbetriebnahme. - Ein umfassendes Wartungs- und technisches Supportpaket. Technische Voraussetzungen: Betriebswellenlängen: Das System muss über Messeingänge zur unabhängigen Charakterisierung externer CW-Laser (Dauerstrichlaser) verfügen. Das System muss mindestens die folgenden zentralen Wellenlängen unterstützen: - 1540 nm - 1238 nm - 894 nm - 637 nm Wellenlängenerweiterung: Die Systemarchitektur muss so ausgelegt sein, dass zukünftige Erweiterungen um zusätzliche Messkanäle innerhalb des Spektralbereichs von 540 nm bis 1700 nm möglich sind. Parallelbetrieb: Alle spezifizierten Messeingänge müssen unabhängig voneinander und gleichzeitig betrieben werden können, ohne dass es zu signifikantem Übersprechen (Cross-talk) oder Leistungseinbußen kommt. Optische Linienbreite: Die einzelnen Kammlinien müssen eine optische Linienbreite von ≤15 kHz. Driftkompensation: Das System muss über eine Schnittstelle zur Driftkompensation verfügen, um eine hohe Langzeit-Frequenzgenauigkeit und Stabilität zu gewährleisten. Mobilität: Das gesamte System muss in ein mobiles Gehäuse/Rack integriert sein, das einen schnellen und sicheren Transport zwischen verschiedenen Laborräumen ermöglicht. Kompaktheit und Stabilität: Das System muss ein kompaktes und robustes Design aufweisen, um eine intrinsische mechanische und thermische Stabilität zu gewährleisten. Hierdurch soll die Notwendigkeit häufiger Neujustierungen nach einem Transport - Institut für Oberflächen-und Schichttechnik GmbHKaiserslautern
LIBS-Mikroskop 2026
Gegenstand des Beschaffungsvorhabens ist die Lieferung, Installation sowie betriebsbereite Übergabe eines modular aufgebauten Digitalmikroskops mit integrierter Möglichkeit zur laserbasierten Materialanalyse mittels Laser Induced Breakdown Spectroscopy (LIBS). Das System soll als zentrale Analyseplattform für die Eingangskontrolle von Proben im Institut sowie für die Untersuchung und Bewertung laserbearbeiteter Proben eingesetzt werden. Zur Sicherstellung einer sachgerechten und nachvollziehbaren Bewertung der Proben müssen visuelle Inspektion, hochauflösende mikroskopische Charakterisierung, dreidimensionale Oberflächenanalyse sowie eine quantitative Bestimmung der Elementzusammensetzung in einem integrierten Arbeitsablauf möglich sein. Insbesondere bei der Analyse laserbearbeiteter Proben ist es erforderlich, sowohl morphologische Veränderungen und Bearbeitungsspuren als auch materialbedingte Veränderungen zuverlässig und reproduzierbar zu erfassen. Aus den dargestellten Einsatzbedingungen ergibt sich die Notwendigkeit eines Systems mit hoher Flexibilität hinsichtlich Probenaufnahme, Vergrößerungsbereich und Analytik. Hierzu zählen insbesondere die Fähigkeit zur Untersuchung großflächiger Proben (einschließlich Wafern bis 300 mm), ein weiter Vergrößerungsbereich von der Übersichtsdarstellung bis zur hochauflösenden Detailanalyse, die Möglichkeit zur Untersuchung großvolumiger oder ortsfester Objekte mittels geeigneter optischer Komponenten sowie die Integration einer präparationsarmen bzw. präparationsfreien Elementanalyse direkt am Untersuchungsort. Ergänzend soll die laserbasierte Funktionalität des Systems nicht ausschließlich zur materialanalytischen Untersuchung eingesetzt werden, sondern auch zur Erzeugung definierter Markierungen auf Probenoberflächen dienen, um Messpositionen für nachgelagerte Untersuchungsverfahren eindeutig zu kennzeichnen und wiederzufinden. Hierbei kann der beim LIBS-Verfahren entstehende Materialabtrag gezielt genutzt werden. Alternativ kann die Markierung durch ein zusätzlich integriertes oder funktional gleichwertiges Lasersystem erfolgen. In beiden Fällen ist eine hochpräzise und reproduzierbare Positionierung im Bereich weniger Mikrometer erforderlich, um eine eindeutige Zuordnung zwischen optischer Charakterisierung, analytischen Messungen und weiteren Prüfverfahren sicherzustellen. Aus diesem Grund sind entsprechend genaue, motorisierte Positioniersysteme mit geeigneter Steuerungs- und Referenzfunktionalität erforderlich. Das System soll sowohl für Routineaufgaben der Probenannahme und Qualitätsbewertung als auch für wissenschaftliche Untersuchungen, Entwicklungsarbeiten und Kooperationsprojekte eingesetzt werden. Darüber hinaus dient es der Unterstützung von Forschungs- und Transferaktivitäten sowie der Qualifizierung von wissenschaftlichem Personal. Die geplante Beschaffung beinhaltet ein vollständiges Digitalmikroskop mit Materialanalysefunktion mittels LIBS inklusive aller für den Betrieb erforderlichen Komponenten, Steuerrechner, Software und Zubehörteile. Im Einzelnen soll das Mikroskop mindestens folgende Komponenten enthalten: - Stativlösung, die den Betrieb sämtlicher vorgesehenen Untersuchungs- und Analysefunktionen ohne erforderlichen Messkopfwechsel ermöglicht. Die Realisierung kann durch ein entsprechend ausgelegtes Einzelstativ oder durch eine Doppelstativkonfiguration erfolgen. Ziel ist es, einen unterbrechungsarmen Arbeitsablauf ohne zeitaufwändige Umrüstvorgänge sicherzustellen. - Motorisierte (X,Y,Z) mind. 100mm x 100mm Stage mit Durchlicht-Option - Motorisierte (X,Y,Z) mind. 300mm x 300mm Stage (Notwendig für Charakterisierung und Markierung von 300mm Wafern) - 4-fach Objektiv-Revolver mit 5 wechselbaren Objektiven für Vergrößerungen 5x (Macro) -6000x - Polarisations- und Interferenzkontrast-Optionen für die Objektive des Revolvers - Materialanalyse zur Bestimmung der quantitativen Elementzusammensetzung mittels LIBS - Mobile Kamera Option mit einer Vergrößerung von mindestens 20x-1000x (auch mit zwei Objektiven) - Schwenkoptionen der Stative (mind. 90° mit Revolver, mind. 60° mit LIBS) - Abstandserweiterungen der Stative für höhere Proben Geometrien - Steuer-PC mit Mess- und Auswertesoftware Software incl. Bedieneinheit - Auswerte Software auch für Offline-PCs
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