Fraunhofer-Gesellschaft - Einkauf B12
Glas and Metal Etch (EMFT-01.2 - EMFT-01.6) - PR1074784-2270-P
Beschaffung einer Ätzanlage für 200-mm-Substrate (Glas/Quarz/Metall). Anforderungen: Hochdichte Plasmaquelle für tiefe Via-Ätzungen (Schichtdicken 2-150 µm), Ätzung von Metallen (Ni, Nb, NbN) und Nitriden (Si3N4), Uniformität <1%, Handhabung transparenter Substrate ohne opake Schichten. Optionen: Substratheizung und Edge-Cover-Ringe für E...
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- Fraunhofer-Gesellschaft - Einkauf B12
- Published:
- November 17, 2025
- Deadline:
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Tender description
Beschaffung einer Ätzanlage für 200-mm-Substrate (Glas/Quarz/Metall). Anforderungen: Hochdichte Plasmaquelle für tiefe Via-Ätzungen (Schichtdicken 2-150 µm), Ätzung von Metallen (Ni, Nb, NbN) und Nitriden (Si3N4), Uniformität <1%, Handhabung transparenter Substrate ohne opake Schichten. Optionen: Substratheizung und Edge-Cover-Ringe für EMFT-01.2/01.3. Die Anlage ist für heterogene Integration erforderlich, da kein vergleichbares System im Konsortium existiert.
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