Universität StuttgartTED
Präzisionspoliersystem für III-V-Materialien (RMS < 1 nm)
Beschaffung eines Präzisionspoliersystems zur Entfernung metamorpher Pufferschichten (MMB) aus InGaAs von InAs-Quantenpunkt-Proben (C-Band). Ziel: Verbesserung der Emissionslinienbreite und Herstellung spannungsfreier QD-Membranen. Anforderungen: Polieren von III-V-Materialien auf Sub-Nanometer-Rauheit (RMS < 1 nm), geringe Gesamtdickenab...
Laboratory Instruments
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- Universität Stuttgart
- Published:
- March 02, 2026
- Deadline:
- April 02, 2026
- Topic:
- Laboratory Instruments
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Beschaffung eines Präzisionspoliersystems zur Entfernung metamorpher Pufferschichten (MMB) aus InGaAs von InAs-Quantenpunkt-Proben (C-Band). Ziel: Verbesserung der Emissionslinienbreite und Herstellung spannungsfreier QD-Membranen. Anforderungen: Polieren von III-V-Materialien auf Sub-Nanometer-Rauheit (RMS < 1 nm), geringe Gesamtdickenabweichung (TTV), hohe Reproduzierbarkeit. Ermöglicht zudem Realisierung von III-V/Si-basierten quantenphotonischen integrierten Schaltungen (QPICs) durch direktes Bonden.
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