Deutsches Zentrum für Luft- und Raumfahrt e.V. (DLR) - OberpfaffenhofenWeßlingTED
Beschaffung einer Röntgenphotoelektronenspektroskopieplattform (XPS)
Beschaffung einer maßgeschneiderten hochauflösenden Röntgenphotoelektronenspektroskopieplattform (XPS) für die Untersuchung temperatur- und umgebungsbedingter Veränderungen der chemischen Zustände von Oberflächen technischer Materialien, funktionaler Oberflächen, Beschichtungen und Pulvern. Das Gerät muss mit einer UV-Strahlungsquelle für...
Type: Tender
Laboratory Instruments
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- Deutsches Zentrum für Luft- und Raumfahrt e.V. (DLR) - Oberpfaffenhofen
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- June 21, 2026
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- Topic:
- Laboratory Instruments
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Beschaffung einer maßgeschneiderten hochauflösenden Röntgenphotoelektronenspektroskopieplattform (XPS) für die Untersuchung temperatur- und umgebungsbedingter Veränderungen der chemischen Zustände von Oberflächen technischer Materialien, funktionaler Oberflächen, Beschichtungen und Pulvern. Das Gerät muss mit einer UV-Strahlungsquelle für Ultraviolett-Photoelektronenspektroskopie, einem Modul für Reflektions-Elektronen-Energieverlust-Spektroskopie sowie entweder einem Modul für Ionenstreuspektroskopie oder einem Modul für (Niederenergie-)Inverse-Photoemissionsspektroskopie ausgestattet sein.
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5Lieferung eines Röntgenphotoelektronenspektroskops (XPS)
Deutsches Zentrum für Luft- und Raumfahrt e.V. (DLR)Gegenstand der Ausschreibung ist die Beschaffung eines hochauflösenden Analysegeräts zur Oberflächencharakterisierung inkl. erweiterbarer Module, Installation, Schulung und Service. Um die spezifischen wissenschaftlichen Fragestellungen aus unserem GI- Antrag und der DLR-weiten Forschung berücksichtigen zu können, ist ein maßgeschneidertes hochauflösendes XPS notwendig.Beschaffung von Spektrometer XPS (Bildgebende Röntgenphotoelektronenspektroskopie)
Institut für Oberflächen-und Schichttechnik GmbHKaiserslauternBeschaffung eines Spektrometers XPS 2026 mit bildgebender hochortsauflösender Röntgenphotoelektronenspektroskopie (XPS) als Kerntechnologie. Das System muss monochromatische Al K(alpha)-Strahlung durchführen können mit einer Energieauflösung von <= 0,5 eV und lateraler Auflösung von <= 10 µm. Bildgebende XPS-Analytik mit voll quantifizierbaren Element-Konzentrations-Verteilungen soll möglich sein. Zudem ist simultane Ladungsneutralisierung mit niederenergetischen Elektronen und Ar-Ionen gefordert.Spektrometer XPS 2026
Institut für Oberflächen-und Schichttechnik GmbHKaiserslauternDie nachfolgend aufgeführten Funktionen stellen zwingende Mindestanforderungen für die Beschaffung dar. M1 - Bildgebende hochortsauflösende Röntgenphotoelektronenspektroskopie (XPS) als Kerntechnologie (µ-XPS). Das System muss Röntgenphotoelektronenspektroskopie (XPS) mit monochromatischer Al K(alpha)-Strahlung durchführen können. Die Energieauflösung muss <= 0,5 eV (FWHM Ag 3d5/2), auch auf isolierenden Proben betragen. Die laterale Auflösung muss <= 10 µm (Spotgröße) erreichen. Auch gefordert ist eine Bild-gebende XPS Analytik, bei der voll quantifizierbare Element-Konzentrations-Verteilungen aufgenommen werden können. Die möglichen Bildbereiche sollen dabei von ca. 100 Mikrometer Durchmesser bis in den Bereich mehrerer Millimeter reichen. Zudem ist (bei hohen Vergrößerungen) eine Lateralauflösung <=10 µm gefordert. Die technische Realisierung kann sowohl durch Rastern des Röntgenstrahls, Verfahren der Stage oder elektronenoptische Abbildungen der Analysator-Eintrittsblende erfolgen. Zudem sollen chemische Bindungszustände auch in der Bildgebung unterschieden werden können. Die Bildgebung muss zwingend auf isolierenden, magnetisierbaren, magnetischen Proben ohne entscheidende Verluste an Sensitivität, energetischer und räumlicher Auflösung möglich sein. Falls eine magnetische Immersionslinse unter der Probenebene genutzt wird muss der Anbieter nachweisen, dass auch stark magnetische Proben ohne Qualitätseinbußen charakterisiert werden können. M2 - Simultane Ladungsneutralisierung mit niederenergetischen Elektronen und Ar-Ionen. Das System muss über eine Ladungskompensation verfügen, die aus einer einzigen koaxialen Quelle oder aus zwei steuerungstechnisch gekoppelten Quellen simultan oder alternierend mit geeigneten Schaltzeiten niederenergetische Elektronen und Ar-Ionen emittiert, um so eine automatische, quasi-stationäre Neutralisierung durchzuführen und damit auch auf lokal isolierenden Probenbereichen nur einen verschwindenden, aufladungsbedingten Energie-Shift realisiert. M3 - Schaltbare Ionenquelle: Cluster-Modus (GCIB) und Atom-Modus (monoatomar) aus einer Quelle mit Massenselektion. Das System muss eine Ionenquelle aufweisen, die zwischen einem Cluster-Ionenmodus (Gas Cluster Ion Beam, GCIB, Clustergröße variabel bis <= 2000 Ar-Atome/Cluster) und einem monoatomaren Ar-Modus umschalten kann, oder über zwei separat schaltbare Quellen verfügen. Die Massenauswahl muss durch einen Massen-Selektor sei es magnetisches Sektorfeld oder Wien-Filter erfolgen, der eine definierte Clustergrößenauswahl ermöglicht. Ein rein elektrostatisches Quadrupol-System käme bei dieser Clustergröße schon in den Grenzbereich. M4 - Integrierte optische Probenbeobachtung ohne Beeinträchtigung des Analysestrahlengangs. Das System muss eine koaxiale optische Probenbeobachtung ermöglichen, bei der der Beobachtungsstrahlengang koaxial mit dem Analysator-Eintritt ausgerichtet ist und der Analysator-Eingang durch einen perforierten Spiegel (Lochspiegel, 45°-Anordnung) freigehalten wird. M5 - Integrierte schnelle Tiefenprofilierung mit vernachlässigbarem Einfluss auf die chemische Struktur. Für die am Institut untersuchten Materialsysteme, darunter funktionale Oxidschichten, Batterieelektrodenmaterialien, Triboschichten verschleißbehafteter Bauteile sowie empfindliche Grenzflächen und dünne Schichten, ist es zwingend erforderlich, ein Abtragverfahren einzusetzen, das den Energieeintrag in die Probe auf ein Minimum reduziert und insbesondere keine relevanten thermischen oder impulsinduzierten Veränderungen verursacht. Oberflächen-Stöchiometrie, -Bindungszustände und Chemie sollen möglichst schonend auch über extreme Tiefenbereiche bis zu <100µm verfolgt werden können. Effekt durch Aufrauhung sollen möglichst vermieden werden. Vor diesem Hintergrund besteht die funktionale Mindestanforderung, dass das einzusetzende Tiefenprofilierungsverfahren weitgehend frei von thermischen Effekten sowie von stoßkaskadeninduzierten Impulseinträgen ist. Ausschließlich eine in das XPS-Vakuumsystem integrierte fs-Laserablation ist geeignet, die bestehenden methodischen Limitierungen konventioneller Sputterverfahren zu überwinden und gleichzeitig die erforderliche analytische Integrität der Proben sicherzustellen. Ex-situ-Ansätze scheiden aufgrund unvermeidbarer Reoxidations-, Kontaminations-, Positions- und Korrelationsprobleme als gleichwertige Alternative aus. Darüber hinaus ist die fs-Laserablation nach dem derzeitigen Stand der Technik die einzige praktikable Methode, um Tiefenprofile bis in den Bereich von 10 µm bis hin zu >= 100 µm unter Erhalt von Stöchiometrie und chemischen Bindungszuständen in vertretbaren Messzeiten zu realisieren. Konventionelle Ionensputterverfahren sind in diesem Tiefenbereich sowohl aus zeitlichen als auch aus physikalisch-methodischen Gründen nicht sinnvoll einsetzbar. Die in-situ fs-Laserablation stellt damit eine zwingende funktionale Voraussetzung dar, um valide Tiefenprofile auch bei komplexen, reaktiven und/oder dickschichtigen Materialsystemen zu ermöglichen und zentrale wissenschaftliche sowie auftragsbezogene Fragestellungen des Instituts überhaupt bearbeiten zu können. Das System muss daher zwingend eine Femtosekunden-(fs)-Laserablations-Einheit aufweisen, die folgende funktionalen Parameter erfüllt: -Pulsdauer: Femtosekundenbereich (< 1 ps) -Integration: Im selben Vakuumsystem wie XPS-Analysator -Zyklussteuerung: Automatisch: Ablation => XPS-Analyse => Wiederholung -Parametersteuerung: Automatische Anpassung von Pulsdauer, Energie, Repetitionsrate, Wellenlänge, Spotgröße durch Controller - Strahlprofil: Definiertes Top-Hat-Profil oder Gaus-artig, schaltbar -Polarisationssteuerung: Variable Polarisation (linear, zirkulär, elliptisch) oder Polarisationsrotation -Tiefenreichweite: > 50 µm (übersteigt Kapazität konventioneller Ionensputterprofilierung)XPS-Anlage
IFW Dresden e.V.DresdenDeadline: Jul 10Nationale Ausschreibung VgV Offenes Verfahren 008/2026 XPS-Anlage XPS-Anlage Lieferauftrag Nein Metadaten Sprachen, in denen diese Bekanntmachung offiziell verfügbar ist: Deutsch Zeitzone für Datums- und Zeitangaben: Europe/Berlin Organisationen Organisationen, die in der Bekanntmachung genannt werden Referenz-ID Organisation: ORG-0001 Kategorie: Käufer Organisation Offizielle Bezeichnung: IFW Dresden e.V. Rechtliche Identifikationsnummer des Unternehmens Identifikationsnummer: DE140303135 Anschrift Postanschrift: Helmholzstr. 20 Ort: Dresden Postleitzahl: 01069 NUTS-3-Code: DED21 - Dresden, Kreisfreie Stadt Land: Deutschland Kontaktstelle Kontaktstelle: Einkauf E-Mail: [email protected] Telefon: 03514659364 Informationen, die sich ausschließlich auf den Auftraggeber beziehen Federführendes Mitglied: Nein Zentrale Beschaffungsstelle, die öffentliche Aufträge oder Rahmenvereinbarungen im Zusammenhang mit für andere Beschaffer bestimmten Bauleistungen, Lieferungen oder Dienstleistungen vergibt/abschließt: Nein Zentrale Beschaffungsstelle, die für andere Beschaffer bestimmte Lieferungen und/oder Dienstleistungen erwirbt: Nein Referenz-ID Organisation: ORG-0002 Kategorie: andere Organisation Offizielle Bezeichnung: Vergabekammer Sachsen Rechtliche Identifikationsnummer des Unternehmens Identifikationsnummer: DE100100100 Anschrift Postanschrift: Brauhaustr. 2 Ort: Leipzig Postleitzahl: 04107 NUTS-3-Code: DED51 - Leipzig, Kreisfreie Stadt Land: Deutschland Kontaktstelle E-Mail: [email protected] Telefon: 0341100100 Vertragspartei und Dienstleister Auftraggeber Auftraggeber Referenz-ID Organisation: ORG-0001 Art des öffentlichen Auftraggebers: Zuwendungsempfänger, soweit nichts anderes zutrifft Haupttätigkeiten des öffentlichen Auftraggebers: Bildung Auftraggeber Referenz-ID Organisation: ORG-0002 Art des öffentlichen Auftraggebers: Anstalten des öffentlichen Rechts auf Landesebene Haupttätigkeiten des öffentlichen Auftraggebers: Allgemeine öffentliche Verwaltung Verfahren Zweck Rechtsgrundlage Rechtsgrundlage des Verfahrens: Richtlinie 2014/24/EU Andere Rechtsgrundlage mit Kennung Rechtsgrundlage des Verfahrens (ELI – CELEX): VgV Beschreibung Interne Kennung: 008/2026 Titel: XPS-Anlage Beschreibung: XPS-Anlage Art des Auftrags: Lieferungen Umfang der Auftragsvergabe Währung: EUR - Euro Währung: EUR - Euro Haupteinstufung Klassifizierungstyp: Gemeinsames Vokabular für öffentliche Aufträge Hauptklassifizierungscode: 38500000 - Apparate und Geräte zum Prüfen und Testen Erfüllungsort Ort: Dresden Postleitzahl: 01069 NUTS-3-Code: DED21 - Dresden, Kreisfreie Stadt Land: Deutschland Bedingungen für die Einreichung eines Angebots Quelle von Ausschlussgründen Grundlage für den Ausschluss: Auftragsunterlagen Grenzübergreifende Rechtsvorschriften Anzuwendende grenzübergreifende Rechtsvorschrift: CrossBorderLaw Beschreibung: siehe Unterlagen Einzelheiten zum Verfahrenstyp Verfahrensart Verfahrensart: Offenes Verfahren Beschleunigtes Verfahren Beschleunigtes Verfahren: nein Zusätzliche Informationen -: Los Los Interne Referenz-ID Los: LOT-0001 Vergabeverfahren Beschreibung des Loses Interne Kennung: LOT-0001 Titel: Lieferung, Installation und Inbetriebnahme einer XPS-Anlage Beschreibung: Lieferung, Installation und Inbetriebnahme einer XPS-Anlage Art des Auftrags: Lieferungen Umfang der Auftragsvergabe Diese Auftragsvergabe ist besonders auch geeignet für kleinste, kleine und mittlere Unternehmen (KMU): Ja Besonders geeignet für: Besonders auch geeignet für sonstige KMU. Währung: EUR - Euro Einstufung des Haupterzeugnisses eines Loses Klassifizierungstyp: Gemeinsames Vokabular für öffentliche Aufträge Hauptklassifizierungscode: 38500000 - Apparate und Geräte zum Prüfen und Testen Art der Auftragsvergabe Strategische Auftragsvergabe Art der strategischen Beschaffung: Keine strategische Beschaffung Umweltauswirkungen der Beschaffung Details zu den Kriterien für grüne Beschaffung Soziales Ziel der Beschaffung Innovativer ErwerbLieferung, Installation und Inbetriebnahme einer XPS-Anlage
IFW Dresden e. V.DresdenDeadline: Jul 10Lieferung, Installation und Inbetriebnahme einer XPS-Anlage
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