Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. - Einkauf B12 - Vergabestelle BauMünchenTED
FIB & SEM system (HHI-01) - PR1216644-3220-P
1 Stück FIB-SEM Dualbeam System Im Rahmen der Beschaffung soll ein feldfreies (ohne Immersionsoptik) fokussiertes Ionenstrahlsystem (FIB-SEM) in Kombination mit einem hochauflösenden Rasterelektronenmikroskop (FIB-SEM) ausgewählt werden. Das System wird für die Strukturierung, Nanostrukturierung sowie Querschnitts- und Oberflächenanalyse ...
Measurement Technology, Laboratory Instruments
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- Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. - Einkauf B12 - Vergabestelle Bau
- Published:
- June 24, 2026
- Deadline:
- July 24, 2026
- Topic:
- Measurement Technology
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1 Stück FIB-SEM Dualbeam System Im Rahmen der Beschaffung soll ein feldfreies (ohne Immersionsoptik) fokussiertes Ionenstrahlsystem (FIB-SEM) in Kombination mit einem hochauflösenden Rasterelektronenmikroskop (FIB-SEM) ausgewählt werden. Das System wird für die Strukturierung, Nanostrukturierung sowie Querschnitts- und Oberflächenanalyse von vorwiegend III/V-Halbleitern, LNOI, Polymeren sowie Resists und für die Halbleitertechnik typischen Prozessprodukten eingesetzt. Programmierbare und automatisierte Routinen sollten nach Möglichkeit konfigurierbar sein. Optionen - Fortgeschrittenenschulung für 15 Tage (2 Personen), Abfrage der Kontingente nach Bedarf - 1 Gasinjektionssystem mit weiteren Elementen, wird im Rahmen der Ausschreibung festgelegt - Softwaremodul zum Import von KLAF-Dateien
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Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. - Einkauf B12 - Vergabestelle BauMünchenDeadline: Jul 031 Facet passivation and coating syste Das ausgeschriebene System ist für die Abscheidung optischer Funktionsbeschichtungen auf optoelektronischen Halbleiterbauelementen vorgesehen, insbesondere für Antireflexbeschichtungen und die Facettenpassivierung von Hochleistungslasern. Bei Hochleistungslasern können Defekte an der Facettenoberfläche zu lokalen Hotspots und thermischen Schäden führen. Herkömmliche Sputterverfahren arbeiten mit vergleichsweise hohen Ionenenergien, was empfindliche Facettenoberflächen beeinträchtigen kann. Die plasmaunterstützte Abscheidung mittels Elektronenzyklotronresonanz (ECR) ermöglicht eine deutliche Reduzierung der Ionenprallenergie durch die Entkopplung der Plasmagenerierung von der Ionenbeschleunigung, was eine schonende und zuverlässige Beschichtung ermöglicht. Aus diesem Grund ist ein ECR-basiertes Beschichtungssystem für die vorliegende Anwendung zwingend erforderlich. Optionen Extended Warranty Spectral System Measurement range Accuracy - thin films 5-20 nm Accuracy - medium thickness 20-200 nm Optical constants Flip mechanism Cooling water
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