Helmholtz-Zentrum Dresden-Rossendorf e.V.DresdenTED
Deep Reactive Ion Etching (DRIE) Si fluorine chemistry etcher
Beschaffung einer Deep Reactive Ion Etching (DRIE) Si-Fluorchemie-Ätzanlage für den IBC-Cleanroom. Ermöglicht Trench-Ätzung (Bosch-Prozess) und Durchkontaktierungs-Ätzung für magnetische Nanobauelemente der nächsten Generation. Bietet nahezu vertikale Seitenwandprofile in Si, SiC und 2D-Materialien (Graphen, MoS2). Lieferung, Installation...
Type: Tender
Laboratory Instruments
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- Helmholtz-Zentrum Dresden-Rossendorf e.V.
- Published:
- June 10, 2026
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- Topic:
- Laboratory Instruments
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Beschaffung einer Deep Reactive Ion Etching (DRIE) Si-Fluorchemie-Ätzanlage für den IBC-Cleanroom. Ermöglicht Trench-Ätzung (Bosch-Prozess) und Durchkontaktierungs-Ätzung für magnetische Nanobauelemente der nächsten Generation. Bietet nahezu vertikale Seitenwandprofile in Si, SiC und 2D-Materialien (Graphen, MoS2). Lieferung, Installation und SAT bis 01.06.2027. Betrieb in ISO-Klasse-6-Umgebung, Probenladung in ISO-Klasse-4/5. Mindestens zwei Jahre Garantie. CE-Kennzeichnung erforderlich.
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